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1. (WO2018221575) MATÉRIAU POUR FORMER UN FILM DE SOUS-COUCHE, FILM DE SOUS-COUCHE DE RÉSERVE, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE FILM DE SOUS-COUCHE DE RÉSERVE ET CORPS STRATIFIÉ
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N° de publication : WO/2018/221575 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/020744
Date de publication : 06.12.2018 Date de dépôt international : 30.05.2018
CIB :
G03F 7/11 (2006.01) ,B32B 27/00 (2006.01) ,C08G 61/08 (2006.01)
[IPC code unknown for G03F 7/11][IPC code unknown for B32B 27][IPC code unknown for C08G 61/08]
Déposants :
三井化学株式会社 MITSUI CHEMICALS, INC. [JP/JP]; 東京都港区東新橋一丁目5番2号 5-2, Higashi-Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1057122, JP
Inventeurs :
井上 浩二 INOUE Koji; JP
小田 隆志 ODA Takashi; JP
川島 啓介 KAWASHIMA Keisuke; JP
Mandataire :
速水 進治 HAYAMI Shinji; JP
Données relatives à la priorité :
2017-10850631.05.2017JP
2017-19626006.10.2017JP
Titre (EN) MATERIAL FOR FORMING UNDERLAYER FILM, RESIST UNDERLAYER FILM, METHOD FOR PRODUCING RESIST UNDERLAYER FILM, AND LAMINATED BODY
(FR) MATÉRIAU POUR FORMER UN FILM DE SOUS-COUCHE, FILM DE SOUS-COUCHE DE RÉSERVE, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE FILM DE SOUS-COUCHE DE RÉSERVE ET CORPS STRATIFIÉ
(JA) 下層膜形成用材料、レジスト下層膜、レジスト下層膜の製造方法および積層体
Abrégé :
(EN) The material for forming an underlayer film according to the present invention is a material for forming a resist underlayer film to be used in a multilayer resist process, the material containing a cyclic olefin polymer including repeating structure units [A] represented by general formula (1) and repeating structure units [B] represented by general formula (2). The molar ratio [A]/[B] of the structure units [A] to the structure units [B] in the cyclic olefin polymer is 5/95 to 95/5.
(FR) Le matériau pour former un film de sous-couche selon la présente invention est un matériau pour former un film de sous-couche de réserve à utiliser dans un procédé de réserve multicouche, le matériau contenant un polymère d'oléfine cyclique comprenant des motifs structurels de répétition [A] représentés par la formule générale (1) et des motifs structurels de répétition [B] représentés par la formule générale (2). Le rapport molaire [A]/[B] des motifs structurels [A] aux motifs structurels [B] dans le polymère d'oléfine cyclique est de 5/95 à 95/5.
(JA) 本発明の下層膜形成用材料は、多層レジストプロセスに用いられるレジスト下層膜を形成するための下層膜形成用材料であって、下記一般式(1)で表される繰返し構造単位[A]および下記一般式(2)で表される繰返し構造単位[B]を有する環状オレフィンポリマーを含み、上記環状オレフィンポリマーにおける上記構造単位[A]と上記構造単位[B]とのモル比[A]/[B]が5/95以上95/5以下である。
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Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
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Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)