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1. (WO2018221520) COMPOSITION D'ÉTHER FLUORÉ DESTINÉE À UN DÉPÔT EN PHASE VAPEUR, ET ARTICLE COMPRENANT UN FILM DÉPOSÉ EN PHASE VAPEUR ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DUDIT ARTICLE

Pub. No.:    WO/2018/221520    International Application No.:    PCT/JP2018/020580
Publication Date: Fri Dec 07 00:59:59 CET 2018 International Filing Date: Wed May 30 01:59:59 CEST 2018
IPC: C23C 14/12
C08G 65/336
C08L 71/02
C08L 83/04
C09D 5/00
C09D 171/02
C09K 3/18
Applicants: AGC INC.
AGC株式会社
Inventors: ISHIZEKI Kenji
石関 健二
HIRAKOSO Hideyuki
平社 英之
Title: COMPOSITION D'ÉTHER FLUORÉ DESTINÉE À UN DÉPÔT EN PHASE VAPEUR, ET ARTICLE COMPRENANT UN FILM DÉPOSÉ EN PHASE VAPEUR ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DUDIT ARTICLE
Abstract:
L'invention concerne une composition d'éther fluoré destinée à un dépôt en phase vapeur qui peut être utilisée en vue de former un film déposé en phase vapeur présentant une excellente durabilité de frottement, un article comprenant un film déposé en phase vapeur et un procédé de production destiné à l'article. La composition d'éther fluoré destiné à un dépôt en phase vapeur contient un composé (A) présentant une chaîne de poly(oxyperfluoroalkylène) et un groupe silyle hydrolysable, et un condensat partiel (B) du composé (A), la proportion du condensat partiel (B) par rapport à la quantité totale du composé (A) et du condensat partiel (B) étant de 4 à 40 % en masse.