Certains contenus de cette application ne sont pas disponibles pour le moment.
Si cette situation persiste, veuillez nous contacter àObservations et contact
1. (WO2018221435) STRATIFIÉ D'ALUMINIUM ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication : WO/2018/221435 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/020280
Date de publication : 06.12.2018 Date de dépôt international : 28.05.2018
CIB :
C25D 11/04 (2006.01) ,C25D 11/16 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
25
PROCÉDÉS ÉLECTROLYTIQUES OU ÉLECTROPHORÉTIQUES; APPAREILLAGES À CET EFFET
D
PROCÉDÉS POUR LA PRODUCTION ÉLECTROLYTIQUE OU ÉLECTROPHORÉTIQUE DE REVÊTEMENTS; GALVANOPLASTIE; JONCTION DE PIÈCES PAR ÉLECTROLYSE; APPAREILLAGES À CET EFFET
11
Revêtements électrolytiques par réaction de surface, c. à d. par formation de couches de conversion
02
Anodisation
04
de l'aluminium ou de ses alliages
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
25
PROCÉDÉS ÉLECTROLYTIQUES OU ÉLECTROPHORÉTIQUES; APPAREILLAGES À CET EFFET
D
PROCÉDÉS POUR LA PRODUCTION ÉLECTROLYTIQUE OU ÉLECTROPHORÉTIQUE DE REVÊTEMENTS; GALVANOPLASTIE; JONCTION DE PIÈCES PAR ÉLECTROLYSE; APPAREILLAGES À CET EFFET
11
Revêtements électrolytiques par réaction de surface, c. à d. par formation de couches de conversion
02
Anodisation
04
de l'aluminium ou de ses alliages
16
Prétraitement
Déposants :
東洋アルミニウム株式会社 TOYO ALUMINIUM KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 大阪府大阪市中央区久太郎町三丁目6番8号 6-8, Kyutaro-machi 3-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5410056, JP
Inventeurs :
新宮 享 SHINGU, Akira; JP
大八木 光成 OOYAGI, Mitsunari; JP
Mandataire :
特許業務法人深見特許事務所 FUKAMI PATENT OFFICE, P.C.; 大阪府大阪市北区中之島三丁目2番4号 中之島フェスティバルタワー・ウエスト Nakanoshima Festival Tower West, 2-4, Nakanoshima 3-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300005, JP
Données relatives à la priorité :
2017-10790631.05.2017JP
Titre (EN) ALUMINUM LAMINATE AND METHOD FOR PRODUCING SAME
(FR) STRATIFIÉ D'ALUMINIUM ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
(JA) アルミニウム積層体およびその製造方法
Abrégé :
(EN) An aluminum laminate (10) comprises an aluminum substrate (1) having a first surface (1A); and an anodic oxide film (2) that is formed in contact with the first surface (1A) and has a second surface (2A), which is in a position that is separated from the first surface (1A) in a direction that intersects the first surface (1A). A surface layer that includes the first surface (1A) of the aluminum substrate (1) includes aluminum having a purity of 99.9 mass% or more, and 0.001 to 0.052 mass% of iron. The surface roughness Ra of the second surface (2A) of the anodic oxide film (2) is 20 nm or less. The mean width of profile elements RSm of the second surface (2A) of the anodic oxide film (2) is less than 30 µm. The thickness of the anodic oxide film (2) in a direction that intersects the anodic oxide film is 9 to 26 µm.
(FR) L'invention concerne un stratifié d'aluminium (10) comprenant un substrat d'aluminium (1) présentant une première surface (1A) ; et un film d'oxyde anodique (2) qui est formé de manière à être en contact avec la première surface (1A) et qui présente une seconde surface (2A), qui est dans une position qui est séparée de la première surface (1A) dans une direction qui coupe la première surface (1A). Une couche de surface qui comporte la première surface (1A) du substrat d'aluminium (1) comporte de l'aluminium présentant une pureté supérieure ou égale à 99,9 % en masse, et de 0,001 à 0,052 % en masse de fer. La rugosité de surface Ra de la seconde surface (2A) du film d'oxyde anodique (2) est inférieure ou égale à 20 nm. La largeur moyenne d'éléments de profil RSm de la seconde surface (2A) du film d'oxyde anodique (2) est inférieure à 30 µm. L'épaisseur du film d'oxyde anodique (2) dans une direction qui coupe le film d'oxyde anodique est de 9 à 26 µm.
(JA) アルミニウム積層体(10)は、第1面(1A)を有するアルミニウム基材(1)と、第1面(1A)に接して形成されており、かつ、第1面(1A)と交差する方向において第1面(1A)から離れた位置にある第2面(2A)を有する陽極酸化皮膜(2)とを備える。アルミニウム基材(1)の第1面(1A)を含む表層は、純度99.9質量%以上であるアルミニウムと、0.001質量%以上0.052質量%以下の鉄とを含む。陽極酸化皮膜(2)の第2面(2A)の表面粗さRaが20nm以下である。陽極酸化皮膜(2)の第2面(2A)の平均凹凸間距離RSmが30μm未満である。陽極酸化皮膜(2)の交差する方向の厚みが9μm以上26μm以下である。
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)