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1. (WO2018221357) DISPERSION DE PARTICULES FINES COMPOSITES À BASE D'OXYDE DE CÉRIUM, SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION, ET DISPERSION DE GRAINS ABRASIFS DE POLISSAGE COMPRENANT UNE DISPERSION DE PARTICULES FINES COMPOSITES À BASE D'OXYDE DE CÉRIUM

Pub. No.:    WO/2018/221357    International Application No.:    PCT/JP2018/019902
Publication Date: Fri Dec 07 00:59:59 CET 2018 International Filing Date: Thu May 24 01:59:59 CEST 2018
IPC: C01B 33/12
B24B 37/00
C01F 17/00
C09G 1/02
C09K 3/14
H01L 21/304
Applicants: JGC CATALYSTS AND CHEMICALS LTD.
日揮触媒化成株式会社
Inventors: KOMATSU, Michio
小松 通郎
NISHIDA, Hiroyasu
西田 広泰
TAWARAZAKO, Yuji
俵迫 祐二
USUDA, Shinya
碓田 真也
NAKAYAMA, Kazuhiro
中山 和洋
Title: DISPERSION DE PARTICULES FINES COMPOSITES À BASE D'OXYDE DE CÉRIUM, SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION, ET DISPERSION DE GRAINS ABRASIFS DE POLISSAGE COMPRENANT UNE DISPERSION DE PARTICULES FINES COMPOSITES À BASE D'OXYDE DE CÉRIUM
Abstract:
La présente invention aborde le problème consistant à fournir une dispersion de particules composites à base d'oxyde de cérium qui est apte à réaliser un polissage à grande vitesse, même pour des films de silice, des tranches de Si et des matériaux difficiles à traiter, et qui est simultanément apte à obtenir une précision de surface élevée. La présente invention résout le problème précité en fournissant une dispersion de particules fines composites à base d'oxyde de cérium qui comprend des particules fines composites à base d'oxyde de cérium qui ont une taille moyenne de particule de 50 à 350 nm, et qui ont les caractéristiques suivantes. Les particules fines composites à base d'oxyde de cérium comprennent chacune : une particule mère ; une couche de silice contenant du cérium ; des particules enfants ; et une couche comprenant de la silice facilement soluble. La particule mère comprend de la silice amorphe en tant que constituant principal. Les particules enfants comprennent de l'oxyde de cérium cristallin en tant que constituant principal. Le rapport de la masse de la couche comprenant la silice facilement soluble à la masse des particules fines composites à base d'oxyde de cérium se situe dans une plage spécifique. Le rapport en masse de la silice à l'oxyde de cérium dans les particules fines composites à base d'oxyde de cérium se situe dans une plage spécifique. Lorsque les particules fines composites à base d'oxyde de cérium sont soumises à une diffraction par rayons X, seule la phase cristalline de l'oxyde de cérium est détectée. La taille moyenne des cristallites de l'oxyde de cérium cristallin mesurée en soumettant les particules fines composites à base d'oxyde de cérium à une diffraction par rayons X est de 10 à 25 nm.