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1. (WO2018221183) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN SUBSTRAT ÉLECTROCONDUCTEUR TRANSPARENT, ET SUBSTRAT ÉLECTROCONDUCTEUR TRANSPARENT

Pub. No.:    WO/2018/221183    International Application No.:    PCT/JP2018/018559
Publication Date: Fri Dec 07 00:59:59 CET 2018 International Filing Date: Tue May 15 01:59:59 CEST 2018
IPC: G06F 3/041
B32B 7/02
B32B 15/08
G06F 3/044
Applicants: SUMITOMO METAL MINING CO., LTD.
住友金属鉱山株式会社
Inventors: SHIMOJI, Takumi
下地 匠
Title: PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN SUBSTRAT ÉLECTROCONDUCTEUR TRANSPARENT, ET SUBSTRAT ÉLECTROCONDUCTEUR TRANSPARENT
Abstract:
L'invention concerne un procédé de fabrication d'un substrat électroconducteur transparent comprenant un procédé de formation de motif qui consiste à former un motif sur un stratifié qui est un constituant d'un substrat stratifié qui comprend un substrat transparent et le stratifié disposé sur au moins un côté du substrat transparent et constitué d'une première couche de noircissement contenant du nickel et du cuivre et d'une couche électroconductrice contenant du cuivre qui sont stratifiées dans l'ordre indiqué depuis le côté substrat transparent, le processus de formation de motifs ayant une étape de gravure de couche électroconductrice qui consiste à graver la couche électroconductrice avec un premier agent de gravure avec lequel du cuivre peut être dissous, et une première étape de gravure de couche de noircissement qui consiste à graver la première couche de noircissement avec un second agent de gravure contenant des icônes de chlorure et de l'eau, la concentration en ions chlorure du second agent de gravure étant de 10 % en masse ou plus en termes d'acide chlorhydrique.