Mobile |
Deutsch |
English |
Español |
日本語 |
한국어 |
Português |
Русский |
中文 |
العربية |
PATENTSCOPE
Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
Options
Recherche
Résultats
Interface
Office
Traduction
Langue d'interrogation
Bulgare
Laotien
Roumain
allemand
anglais
arabe
chinois
coréen
danois
espagnol
estonien
français
hébreu
indonésien
italien
japonais
polonais
portugais
russe
suédois
thaï
toutes
vietnamien
Stemming/Racinisation
Trier par:
Pertinence
Date de pub. antichronologique
Date de pub. chronologique
Date de demande antichronologique
Date de demande chronologique
Nombre de réponses par page
10
50
100
200
Langue pour les résultats
Langue d'interrogation
anglais
espagnol
coréen
vietnamien
hébreu
portugais
français
allemand
japonais
russe
chinois
italien
polonais
danois
suédois
arabe
estonien
indonésien
thaï
Bulgare
Laotien
Roumain
Champs affichés
Numéro de la demande
Date de publication
Abrégé
Nom du déposant
Classification internationale
Image
Nom de l'inventeur
Tableau/Graphique
Tableau
Graphique
Regroupement
*
Aucun
Offices of NPEs
Code CIB
Déposants
Inventeurs
Dates de dépôt
Dates de publication
Pays
Nombre d'entrées par groupe
0
1
2
3
4
5
6
7
8
9
10
11
12
13
14
15
16
17
18
19
20
21
22
23
24
25
0
1
2
3
4
5
6
7
8
9
10
11
12
13
14
15
16
17
18
19
20
21
22
23
24
25
Download Fields
NPEs
Page de recherche par défaut
Recherche simple
Recherche avancée
Combinaison de champs
Recherche par semaine (PCT)
Expansion de requête multilingue
Traducteur
Recherche simple
Recherche avancée
Combinaison de champs
Recherche par semaine (PCT)
Expansion de requête multilingue
Traducteur
Champ de recherche par défaut
Front Page
Any Field
Full Text
ID/Numbers
IPC
Names
Dates
Front Page
Any Field
Full Text
ID/Numbers
IPC
Names
Dates
Langue de l'interface
English
Deutsch
Français
Español
日本語
中文
한국어
Português
Русский
English
Deutsch
Français
Español
日本語
中文
한국어
Português
Русский
Interface multi-fenêtres
Bulle d'aide
Bulles d'aide pour la CIB
Instant Help
Expanded Query
Office:
Tous
Tous
PCT
Afrique
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO)
Égypte
Kenya
Maroc
Tunisie
Afrique du Sud
Amérique
États-Unis d'Amérique
Canada
LATIPAT
Argentine
Brésil
Chili
Colombie
Costa Rica
Cuba
Rép. dominicaine
Équateur
El Salvador
Guatemala
Honduras
Mexique
Nicaragua
Panama
Pérou
Uruguay
Asie-Europe
Australie
Bahreïn
Chine
Danemark
Estonie
Office eurasien des brevets (OEAB)
Office européen des brevets (OEB
France
Allemagne
Allemagne (données RDA)
Israël
Japon
Jordanie
Portugal
Fédération de Russie
Fédération de Russie (données URSS)
Arabie saoudite
Émirats arabes unis
Espagne
Rép. de Corée
Inde
Royaume-Uni
Géorgie
Bulgarie
Italie
Roumanie
République démocratique populaire lao
Asean
Singapour
Viet Nam
Indonésie
Cambodge
Malaisie
Brunei Darussalam
Philippines
Thaïlande
WIPO translate (Wipo internal translation tool)
Recherche
Recherche simple
Recherche avancée
Combinaison de champs
Expansion de requête multilingue
Composés chimiques (connexion requise)
Options de navigation
Recherche par semaine (PCT)
Archive Gazette
Entrées de Phase National
Téléchargement intégral
Téléchargement incrémental (7 derniers jours)
Listages de séquences
L’inventaire vert selon la CIB
Portail d'accès aux registres de brevets nationaux
Traduction
WIPO Translate
WIPO Pearl
Quoi de neuf
Quoi de neuf sur PATENTSCOPE
Connexion
ui-button
Connexion
Créer un compte
Options
Options
Aide
ui-button
Comment rechercher
Guide d'utilisation PATENTSCOPE
Guide d'utilisation: Recherche multilingue
User Guide: ChemSearch
Syntaxe de recherche
Définition des champs
Code pays
Données disponibles
Demandes PCT
Entrée en phase nationale PCT
Collections nationales
Global Dossier public
FAQ
Observations et contact
Codes INID
Codes de type de document
Tutoriels
À propos
Aperçu
Avertissement & Conditions d'utilisation
Clause de non-responsabilité
Accueil
Services
PATENTSCOPE
Traduction automatique
Wipo Translate
arabe
allemand
anglais
espagnol
français
japonais
coréen
portugais
russe
chinois
Google Translate
Bing/Microsoft Translate
Baidu Translate
arabe
anglais
français
allemand
espagnol
portugais
russe
coréen
japonais
chinois
...
Italian
Thai
Cantonese
Classical Chinese
Certains contenus de cette application ne sont pas disponibles pour le moment.
Si cette situation persiste, veuillez nous contacter à
Observations et contact
1. (WO2018220979) PLAQUE DE CATHODE POUR ÉLECTRODÉPOSITION DE MÉTAL ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
Données bibliographiques PCT
Texte intégral
Dessins
Phase nationale
Notifications
Documents
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international
Formuler une observation
Lien permanent
Lien permanent
Ajouter aux favoris
N° de publication :
WO/2018/220979
N° de la demande internationale :
PCT/JP2018/013187
Date de publication :
06.12.2018
Date de dépôt international :
29.03.2018
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :
24.08.2018
CIB :
C25C 7/02
(2006.01) ,
C23F 1/02
(2006.01) ,
C25C 1/08
(2006.01) ,
C25D 17/12
(2006.01)
C
CHIMIE; MÉTALLURGIE
25
PROCÉDÉS ÉLECTROLYTIQUES OU ÉLECTROPHORÉTIQUES; APPAREILLAGES À CET EFFET
C
PROCÉDÉS POUR LA PRODUCTION, LA RÉCUPÉRATION OU L'AFFINAGE ÉLECTROLYTIQUE DES MÉTAUX; APPAREILLAGES À CET EFFET
7
Eléments structurels, ou leur assemblage, des cellules; Entretien ou conduite des cellules
02
Electrodes; Leurs connexions
C
CHIMIE; MÉTALLURGIE
23
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
F
ENLÈVEMENT NON MÉCANIQUE DE MATÉRIAU MÉTALLIQUE DES SURFACES; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; MOYENS POUR EMPÊCHER L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL; PROCÉDÉS À ÉTAPES MULTIPLES POUR LE TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES UTILISANT AU MOINS UN PROCÉDÉ COUVERT PAR LA CLASSE C23 ET AU MOINS UN PROCÉDÉ COUVERT SOIT PAR LA SOUS-CLASSE C21D, SOIT PAR LA SOUS-CLASSE C22F, SOIT PAR LA CLASSE C25308
1
Décapage de matériaux métalliques par des moyens chimiques
02
Gravure locale
C
CHIMIE; MÉTALLURGIE
25
PROCÉDÉS ÉLECTROLYTIQUES OU ÉLECTROPHORÉTIQUES; APPAREILLAGES À CET EFFET
C
PROCÉDÉS POUR LA PRODUCTION, LA RÉCUPÉRATION OU L'AFFINAGE ÉLECTROLYTIQUE DES MÉTAUX; APPAREILLAGES À CET EFFET
1
Production, récupération ou affinage électrolytique des métaux par électrolyse de solutions
06
des métaux du groupe du fer, de métaux réfractaires ou du manganèse
08
du nickel ou du cobalt
C
CHIMIE; MÉTALLURGIE
25
PROCÉDÉS ÉLECTROLYTIQUES OU ÉLECTROPHORÉTIQUES; APPAREILLAGES À CET EFFET
D
PROCÉDÉS POUR LA PRODUCTION ÉLECTROLYTIQUE OU ÉLECTROPHORÉTIQUE DE REVÊTEMENTS; GALVANOPLASTIE; JONCTION DE PIÈCES PAR ÉLECTROLYSE; APPAREILLAGES À CET EFFET
17
Éléments structurels, ou leurs assemblages, des cellules pour revêtement électrolytique
10
Electrodes
12
Forme ou configuration
Déposants :
住友金属鉱山株式会社 SUMITOMO METAL MINING CO., LTD.
[JP/JP]; 東京都港区新橋5-11-3 11-3, Shimbashi 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1058716, JP
Inventeurs :
渡邉 寛人 WATANABE Hiroto
; JP
松岡 いつみ MATSUOKA Itsumi
; JP
仙波 祐輔 SENBA Yusuke
; JP
小林 宙 KOBAYASHI Hiroshi
; JP
Mandataire :
正林 真之 SHOBAYASHI Masayuki
; JP
林 一好 HAYASHI Kazuyoshi
; JP
Données relatives à la priorité :
2017-105796
29.05.2017
JP
Titre
(EN)
CATHODE PLATE FOR METAL ELECTRODEPOSITION AND MANUFACTURING METHOD FOR SAME
(FR)
PLAQUE DE CATHODE POUR ÉLECTRODÉPOSITION DE MÉTAL ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA)
金属電着用陰極板及びその製造方法
Abrégé :
(EN)
Provided are: a cathode plate for metal electrodeposition which makes it less likely to lose a non-conductive film on a metal plate, which can be used repeatedly, and for which maintenance is easy even if a non-conductive film is lost; and a manufacturing method for such cathode plate. This cathode plate 1 includes a metal plate 2 on which a plurality of disk-shaped projections 2a are arranged, and a non-conductive film 3 formed in flat sections 2b which are sections of the metal plate 2 other than the projections 2a. The projections 2a each have a side face that has a shape formed of a substantially vertical section 2d and an inclined section 2e. A height L1 of each projection 2a is 50µm to 1000µm, and when an intersection of the side face of the projection and a vertical line that is vertically lowered from a position X that is 20µm outward from the outer peripheral edge of the projection is defined as Y, then a length L2 from X to Y is at least 40µm but not more than 0.8×L1µm.
(FR)
L'invention concerne : une plaque de cathode pour électrodéposition de métal rendant moins susceptible de perdre un film non conducteur sur une plaque métallique, pouvant être utilisée de manière répétée, et pour laquelle une maintenance est facile même si un film non conducteur est perdu ; et un procédé de fabrication pour une telle plaque de cathode. Cette plaque de cathode 1 comprend une plaque métallique 2 sur laquelle sont disposées une pluralité de saillies en forme de disque 2a, et un film non conducteur 3 formé dans des sections plates 2b qui sont des sections de la plaque métallique 2 autres que les saillies 2a. Les saillies 2a ont chacune une face latérale qui a une forme formée d'une section sensiblement verticale 2d et d'une section inclinée 2e. Une hauteur L1 de chaque saillie 2a est de 50 µm à 1000 µm, et lorsqu'une intersection de la face latérale de la saillie et d'une ligne verticale qui est abaissée verticalement à partir d'une position X qui est de 20 µm vers l'extérieur depuis le bord périphérique externe de la saillie est définie comme Y, alors une longueur L2 de X à Y est d'au moins 40 µm mais inférieure ou égale à 0,8 × L1 µm.
(JA)
金属板上の非導電膜が欠落しにくく、繰り返し使用可能で、且つ非導電膜が欠落した場合であっても整備が容易な金属電着用陰極板及びその製造方法を提供する。 本発明の陰極板1は、複数の円盤状の突起部2aが配列している金属板2と、金属板2の突起部2a以外の平坦部2bに形成される非導電膜3と、を有し、突起部2aは、その側面が、略垂直部2dと傾斜部2eとからなる形状を有している。また、突起部2aの高さL1は、50μm以上1000μm以下であり、突起部の外周縁から外側に20μm離れた位置Xから垂直に下ろした垂線と側面との交点をYとするとき、XからYまでの長さL2は、40μm以上であり0.8×L1μm以下である。
États désignés :
AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication :
japonais (
JA
)
Langue de dépôt :
japonais (
JA
)