Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales

1. (WO2018220907) DISPOSITIF DE FORMATION DE FILM ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM

Pub. No.:    WO/2018/220907    International Application No.:    PCT/JP2018/005743
Publication Date: Fri Dec 07 00:59:59 CET 2018 International Filing Date: Tue Feb 20 00:59:59 CET 2018
IPC: C23C 14/34
H01B 13/00
Applicants: ULVAC, INC.
株式会社アルバック
Inventors: SUDA, Tomokazu
須田 具和
TAKAHASHI, Hirohisa
高橋 明久
ORII, Yuichi
織井 雄一
HAKOMORI, Muneto
箱守 宗人
Title: DISPOSITIF DE FORMATION DE FILM ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM
Abstract:
[Problème] Stabiliser la pression partielle de vapeur d’eau et stabiliser en outre la qualité de film d’un film conducteur transparent. [Solution] La présente invention concerne un dispositif de formation de film qui comprend une première chambre à vide, une source d’alimentation en gaz, une source de formation de film, et un dispositif de commande. Dans la première chambre à vide, un état de pression réduite est maintenu et un support pour maintenir un substrat peut être transporté à l’intérieur et à l’extérieur. La source d’alimentation en gaz peut alimenter un gaz de vapeur d’eau dans la première chambre. La source de formation de film est disposée dans la première chambre à vide et peut générer un matériau d’un film conducteur transparent formé sur le substrat. Lorsque le film conducteur transparent doit être formé sur le substrat, le dispositif de commande commande la plage de la pression partielle de vapeur d’eau de la première chambre à vide entre une première pression partielle ou plus et une deuxième pression partielle ou moins, qui est supérieure à la première pression partielle.