Certains contenus de cette application ne sont pas disponibles pour le moment.
Si cette situation persiste, veuillez nous contacter àObservations et contact
1. (WO2018220731) DISPOSITIF DE TRAITEMENT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication : WO/2018/220731 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/020169
Date de publication : 06.12.2018 Date de dépôt international : 31.05.2017
CIB :
H01L 21/677 (2006.01) ,H01L 21/285 (2006.01) ,H01L 21/316 (2006.01)
[IPC code unknown for H01L 21/677][IPC code unknown for H01L 21/285][IPC code unknown for H01L 21/316]
Déposants :
アドバンストマテリアルテクノロジーズ株式会社 ADVANCED MATERIAL TECHNOLOGIES, INC. [JP/JP]; 千葉県流山市西平井956番地の1 956-1, Nishi-hirai, Nagareyama-shi, Chiba 2700156, JP
Inventeurs :
川邉 丈晴 KAWABE Takeharu; JP
本多 祐二 HONDA Yuji; JP
木島 健 KIJIMA Takeshi; JP
鈴木 哲平 SUZUKI Teppei; JP
Mandataire :
柳瀬 睦肇 YANASE Mutsuyasu; JP
渡部 温 WATANABE Atsushi; JP
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) PROCESSING DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE TRAITEMENT
(JA) 処理装置
Abrégé :
(EN) [Problem] To provide a processing device that is able to reduce the waiting time period when a conveyance robot conveys a substrate from a processing chamber to another processing chamber, even if the number of processing chambers is increased. [Solution] One aspect of the present invention is a processing device provided with: a first delivery chamber 231; a first stage 241 that holds a substrate; a first conveyance chamber 261 that is connected to the first delivery chamber via a first gate valve 222; a first conveyance robot 261a; a first processing chamber 212 that is connected to the first conveyance chamber via a second gate valve 223; a second stage 242 that holds a substrate; a second processing chamber 213 that is connected to the first conveyance chamber via a third gate valve 224; a third stage 243 that holds a substrate; a second delivery chamber 232 that is connected to the first conveyance chamber via a first opening 271; and a fourth stage 244 that holds a substrate.
(FR) Le problème décrit par la présente invention est de fournir un dispositif de traitement qui permet de réduire la période de temps d'attente lorsqu'un robot de transport transporte un substrat d'une chambre de traitement vers une autre chambre de traitement, même si le nombre de chambres de traitement est augmenté. À cette fin, un aspect de la présente invention concerne un dispositif de traitement pourvu : d'une première chambre de distribution (231) ; d'un premier étage (241) qui maintient un substrat ; d'une première chambre de transport (261) qui est reliée à la première chambre de distribution par l'intermédiaire d'un premier robinet-vanne (222) ; d'un premier robot de transport (261a) ; d'une première chambre de traitement (212) qui est reliée à la première chambre de transport par l'intermédiaire d'un deuxième robinet-vanne (223) ; d'un deuxième étage (242) qui maintient un substrat ; d'une seconde chambre de traitement (213) qui est reliée à la première chambre de transport par l'intermédiaire d'un troisième robinet-vanne (224) ; d'un troisième étage (243) qui maintient un substrat ; d'une seconde chambre de distribution (232) qui est reliée à la première chambre de transport par l'intermédiaire d'une première ouverture (271) ; et d'un quatrième étage (244) qui maintient un substrat.
(JA) 【課題】処理室の数が増えても搬送ロボットが基板を処理室から処理室へ搬送する際の待ち時間を少なくできる処理装置を提供する。 【解決手段】本発明の一態様は、第1の受渡室231と、基板を保持する第1のステージ241と、前記第1の受渡室に第1のゲートバルブ222を介して接続された第1の搬送室261と、第1の搬送ロボット261aと、前記第1の搬送室に第2のゲートバルブ223を介して接続された第1の処理室212と、基板を保持する第2のステージ242と、前記第1の搬送室に第3のゲートバルブ224を介して接続された第2の処理室213と、基板を保持する第3のステージ243と、前記第1の搬送室に第1の開口271を介して接続された第2の受渡室232と、基板を保持する第4のステージ244を具備する処理装置である。
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)