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1. (WO2018219870) PROCÉDÉ D'EXPOSITION PAR PROJECTION ET APPAREIL D'EXPOSITION PAR PROJECTION POUR MICROLITHOGRAPHIE

Pub. No.:    WO/2018/219870    International Application No.:    PCT/EP2018/063942
Publication Date: Fri Dec 07 00:59:59 CET 2018 International Filing Date: Tue May 29 01:59:59 CEST 2018
IPC: G03F 7/20
G02B 13/22
Applicants: CARL ZEISS SMT GMBH
Inventors: WOLF, Alexander
Title: PROCÉDÉ D'EXPOSITION PAR PROJECTION ET APPAREIL D'EXPOSITION PAR PROJECTION POUR MICROLITHOGRAPHIE
Abstract:
Dans un procédé d'exposition par projection pour exposer un substrat sensible au rayonnement à au moins une image d'un motif d'un masque sous la commande d'un système de commande de fonctionnement d'un appareil d'exposition par projection, une partie du motif se trouvant dans une région d'éclairage est imagée sur le champ d'image sur le substrat à l'aide d'une lentille de projection, tous les rayons du rayonnement de projection contribuant à la production d'image dans le champ d'image formant un chemin de faisceau de projection. Le front d'onde du rayonnement de projection est influencé par l'actionnement d'un manipulateur qui présente une surface de manipulateur disposée dans le chemin de faisceau de projection et un dispositif d'actionnement pour modifier de manière réversible un effet optique de la surface de manipulateur. Des changements de valeurs manipulées du dispositif d'actionnement sont déterminés par le système de commande de fonctionnement sur la base d'un programme de commande avec un algorithme de correction qui optimise une fonction cible. La fonction cible pour au moins un manipulateur comprend une sensibilité de télécentricité qui décrit une relation entre un changement de valeur manipulée défini au niveau du manipulateur et un effet pouvant être ainsi obtenu sur la télécentricité du rayonnement de projection dans le champ d'image.