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1. (WO2018219569) APPAREIL LITHOGRAPHIQUE
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N° de publication : WO/2018/219569 N° de la demande internationale : PCT/EP2018/061073
Date de publication : 06.12.2018 Date de dépôt international : 01.05.2018
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
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Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
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Exposition; Appareillages à cet effet
Déposants :
ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
Inventeurs :
SCHIMMEL, Hendrikus, Gijsbertus; NL
HOFMAN, Johannes, Marinus, Abraham; NL
RANJAN, Manish; NL
GASSELING, Paulus, Albertus, Maria; NL
LEROUX, Alain, Louis, Claude; NL
YOUSEFI MOGHADDAM, Mehdi; NL
ARLEMARK, Erik, Johan; NL
HEMSCHOOTE, Dries, Vaast, Paul; NL
Mandataire :
VERDONK, Peter; NL
Données relatives à la priorité :
17173276.129.05.2017EP
Titre (EN) LITHOGRAPHIC APPARATUS
(FR) APPAREIL LITHOGRAPHIQUE
Abrégé :
(EN) A lithographic apparatus comprising a first chamber comprising a projection system, the projection system being configured to project a patterned radiation beam onto a substrate, a second chamber comprising a substrate table, the substrate table being constructed to hold a substrate, a channel extending between the first chamber and the second chamber, the channel being configured to receive a flow of purging fluid, a perimeter of the channel being defined by a wall, and a cooling system configured to cool the wall of the channel.
(FR) L'invention concerne un appareil lithographique comportant une première chambre comprenant un système de projection, le système de projection étant conçu pour projeter un faisceau de rayonnement façonné sur un substrat, une deuxième chambre comprenant une table de substrat, la table de substrat étant conçue pour maintenir un substrat, un canal qui s'étend entre la première chambre et la deuxième chambre, le canal étant conçu pour recevoir un écoulement de fluide de purge, un périmètre du canal étant défini par une paroi, et un système de refroidissement conçu pour refroidir la paroi du canal.
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)