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1. (WO2018219383) ENSEMBLE DE SUPPORT PLAT
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N° de publication : WO/2018/219383 N° de la demande internationale : PCT/DE2018/100388
Date de publication : 06.12.2018 Date de dépôt international : 23.04.2018
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 : 11.09.2018
CIB :
A61N 1/44 (2006.01) ,A61L 2/14 (2006.01) ,H05H 1/24 (2006.01)
A NÉCESSITÉS COURANTES DE LA VIE
61
SCIENCES MÉDICALE OU VÉTÉRINAIRE; HYGIÈNE
N
ÉLECTROTHÉRAPIE; MAGNÉTOTHÉRAPIE; THÉRAPIE PAR RADIATIONS; THÉRAPIE PAR ULTRASONS
1
Électrothérapie; Circuits à cet effet
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Application de fluides ionisés
A NÉCESSITÉS COURANTES DE LA VIE
61
SCIENCES MÉDICALE OU VÉTÉRINAIRE; HYGIÈNE
L
PROCÉDÉS OU APPAREILS POUR STÉRILISER DES MATÉRIAUX OU DES OBJETS EN GÉNÉRAL; DÉSINFECTION, STÉRILISATION OU DÉSODORISATION DE L'AIR; ASPECTS CHIMIQUES DES BANDAGES, DES PANSEMENTS, DES GARNITURES ABSORBANTES OU DES ARTICLES CHIRURGICAUX; MATÉRIAUX POUR BANDAGES, PANSEMENTS, GARNITURES ABSORBANTES OU ARTICLES CHIRURGICAUX
2
Procédés ou appareils de désinfection ou de stérilisation de matériaux ou d'objets autres que les denrées alimentaires ou les lentilles de contact; Accessoires à cet effet
02
utilisant des phénomènes physiques
14
du plasma, c. à d. des gaz ionisés
H ÉLECTRICITÉ
05
TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
H
TECHNIQUE DU PLASMA; PRODUCTION DE PARTICULES ÉLECTRIQUEMENT CHARGÉES ACCÉLÉRÉES OU DE NEUTRONS; PRODUCTION OU ACCÉLÉRATION DE FAISCEAUX MOLÉCULAIRES OU ATOMIQUES NEUTRES
1
Production du plasma; Mise en œuvre du plasma
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Production du plasma
Déposants :
CINOGY GMBH [DE/DE]; Max-Näder-Straße 15 37115 Duderstadt, DE
Inventeurs :
WANDKE, Dirk; DE
HAHNL, Mirko; DE
STORCK, Karl-Otto; DE
RICKE, Melanie; DE
TRUTWIG, Leonhard; DE
Mandataire :
GRAMM, LINS & PARTNER PATENT- UND RECHTSANWÄLTE PARTGMBB; Theodor-Heuss-Straße 1 38122 Braunschweig, DE
Données relatives à la priorité :
10 2017 111 902.731.05.2017DE
Titre (EN) FLAT PAD STRUCTURE
(FR) ENSEMBLE DE SUPPORT PLAT
(DE) FLÄCHIGE AUFLAGEANORDNUNG
Abrégé :
(EN) A flat pad structure, designed to generate a dielectric barrier discharge plasma on a contact side (109) of said pad structure, comprises a flat electrode arrangement (112) which is embedded in a flat dielectric (102), can be supplied with high-voltage signals and is shielded on all sides against an unimpeded current flow; said pad structure has better stability and can be better adapted to elongate treatment areas because a width of the structure extends in a longitudinal direction (L) and in the longitudinal direction (L) the structure has a plurality of identically structured portions (101), each with a dielectric portion in the width of the pad structure and each with at least one electrode portion; the electrode portions of said portions (101) adjoin one another in the longitudinal direction (L) and form an electrode arrangement (112) extending over the entire length such that, in order to reduce the size of the contact surface in the longitudinal direction (L), at least one portion (101) can be separated from an adjacent portion (101) at a predetermined separation line (103) extending transverse to the longitudinal direction (L) and such that in the remaining portion (101) the predetermined separation line (103) is covered by an insulating component (116).
(FR) La présente invention concerne un ensemble de support plat conçu pour produire un plasma de type décharge à barrière diélectrique sur une face d'appui (109) de l'ensemble de support, avec un ensemble d'électrodes plates (112) noyé dans un diélectrique plat (102), pouvant être alimenté par des signaux haute tension et protégé de toutes parts contre un courant non entravé. L'ensemble de support plat présente une meilleure stabilité et une meilleure adaptabilité sur les surfaces de traitement allongées, de telle sorte que l'ensemble de support s'étende sur une certaine largeur dans un sens de la longueur (L) et présente, dans le sens de la longueur (L), plusieurs segments (101) identiques munis respectivement d'un segment diélectrique dans la largeur de l'ensemble de support et munis respectivement d'un segment d'électrode, lesdits segments d'électrodes des segments (101) se raccordant les uns aux autres dans le sens de la longueur (L) et formant un ensemble d'électrodes (112) s'étendant sur toute la longueur de manière à ce qu'au moins un segment (101) puisse être détaché d'un segment (101) voisin, au niveau d'une ligne de séparation théorique (103) s'étendant transversalement au sens de la longueur (L), pour réduire la surface de support dans le sens de la longueur (L) et de manière à ce que la ligne de séparation théorique (103) soit recouverte par un élément isolant (116) au niveau du segment (101) restant.
(DE) Eine flächige Auflageanordnung, ausgebildet zur Erzeugung eines dielektrisch behinderten Plasmas an einer Anlageseite (109) der Auflageanordnung, mit einer flächigen Elektrodenanordnung (112), die in ein flächiges Dielektrikum (102) eingebettet, mit Hochspannungssignalen versorgbar und allseitig gegen einen unbehinderten Stromfluss abgeschirmt ist, weist eine verbesserte Stabilität und Anpassbarkeit an länglichen Behandlungsflächen dadurch auf, dass sich die Auflageanordnung mit einer Breite in einer Längsrichtung (L) erstreckt und in Längsrichtung (L) mehrere gleich aufgebaute Abschnitte (101) mit jeweils einem Dielektrikumsabschnitt in der Breite der Auflageanordnung und mit jeweils wenigstens einem Elektrodenabschnitt aufweist, wobei die Elektrodenabschnitte der Abschnitte (101) in Längsrichtung (L) aneinander anschließen und eine sich über die gesamte Länge erstreckende Elektrodenanordnung (112) bilden, dass wenigstens ein Abschnitt (101) von einem benachbarten Abschnitt (101) zur Verkleinerung der Anlagefläche in Längsrichtung (L) an einer quer zur Längsrichtung (L) verlaufenden Soll-Trennlinie (103) abtrennbar ist und dass an dem verbleibenden Abschnitt (101) die Soll-Trennlinie (103) mit einem isolierenden Bauelement (116) abgedeckt ist.
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)