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1. (WO2018219153) APPAREIL DE POST-TRAITEMENT DE FILM MINCE DE PÉROVSKITE, SON PROCÉDÉ D'UTILISATION ET SON APPLICATION
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N° de publication : WO/2018/219153 N° de la demande internationale : PCT/CN2018/087354
Date de publication : 06.12.2018 Date de dépôt international : 17.05.2018
CIB :
H01L 51/42 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
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Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
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spécialement adaptés pour détecter les rayons infrarouges, la lumière, le rayonnement électromagnétique d'ondes plus courtes, ou le rayonnement corpusculaire; spécialement adaptés, soit comme convertisseurs de l'énergie dudit rayonnement en énergie électrique, soit comme dispositifs de commande de l'énergie électrique par ledit rayonnement
Déposants :
杭州纤纳光电科技有限公司 HANGZHOU MICROQUANTA SEMICONDUCTOR CORPORATION LIMITED [CN/CN]; 中国浙江省杭州市 余杭区龙潭路7号B幢209室 Building B, Room 209 No. 7 Longtan Road, Yuhang District Hangzhou, Zhejiang 311121, CN
Inventeurs :
姚冀众 YAO, Jizhong; CN
颜步一 YAN, Buyi; CN
Mandataire :
杭州奥创知识产权代理有限公司 HANGZHOU AOCHUANG INTELLECTUAL PROPERTY AGENCY CO., LTD; 中国浙江省杭州市 下城区复兴路439号128室 Room 128 No. 439 Fuxing Road, Xiacheng District Hangzhou, Zhejiang 310008, CN
Données relatives à la priorité :
201710406252.802.06.2017CN
Titre (EN) PEROVSKITE THIN FILM POST-TREATMENT APPARATUS, USING METHOD, AND APPLICATION
(FR) APPAREIL DE POST-TRAITEMENT DE FILM MINCE DE PÉROVSKITE, SON PROCÉDÉ D'UTILISATION ET SON APPLICATION
(ZH) 一种钙钛矿薄膜后处理设备及使用方法和应用
Abrégé :
(EN) The present invention relates to a perovskite thin film post-treatment apparatus, comprising a solution spray coating and cleaning part and/or a solvent deposition part. The solution spray coating and cleaning part comprises a first conveying device, a first closed chamber, a solution spray coating device, a high pressure gas nozzle device, and a high temperature drying device; the high pressure gas nozzle device is disposed between the solution spray coating device and the high temperature drying device; the first conveying device stretches across the first closed chamber. The solvent deposition part comprises a drive shaft device, a second closed chamber, a heating device, and a solvent evaporation device; the solvent evaporation device is close to the solution spray coating and cleaning part; a drive shaft of the drive shaft device passes between the heating device and the solvent evaporation device which are disposed in a vertical direction. The present invention also relates to a using method for and an application of a perovskite thin film post-treatment apparatus. The present invention is used for performing subsequent cleaning and annealing on a substrate on which a perovskite thin film is manufactured, and repairing defects of the perovskite thin film, thereby further improving the quality of the perovskite thin film.
(FR) La présente invention concerne un appareil de post-traitement de film mince de pérovskite, comprenant une partie de revêtement par pulvérisation de solution et de nettoyage et/ou une partie de dépôt de solvant. La partie de revêtement par pulvérisation de solution et de nettoyage comprend un premier dispositif de transport, une première chambre fermée, un dispositif de revêtement par pulvérisation de solution, un dispositif de buse à gaz haute pression et un dispositif de séchage à haute température. Le dispositif de buse de gaz à haute pression est disposé entre le dispositif de revêtement par pulvérisation de solution et le dispositif de séchage à haute température. Le premier dispositif de transport s'étend à travers la première chambre fermée. La partie de dépôt de solvant comprend un dispositif d'arbre d'entraînement, une seconde chambre fermée, un dispositif de chauffage et un dispositif d'évaporation de solvant. Le dispositif d'évaporation de solvant est proche de la partie de revêtement par pulvérisation de solution et de nettoyage. Un arbre d'entraînement du dispositif d'arbre d'entraînement passe entre le dispositif de chauffage et le dispositif d'évaporation de solvant qui sont disposés dans une direction verticale. L'invention concerne en outre un procédé d'utilisation et une application d'un appareil de post-traitement de film mince de pérovskite. L'invention est utilisée pour effectuer un nettoyage et un recuit ultérieurs sur un substrat sur lequel est formé un film mince de pérovskite, et réparer des défauts du film mince de pérovskite, ce qui permet d'améliorer davantage la qualité du film mince de pérovskite.
(ZH) 本发明涉及一种钙钛矿薄膜后处理设备,包括溶液喷涂清洗部分和/或溶剂沉积部分,溶液喷涂清洗部分包括第一传送装置、第一密闭腔室以及溶液喷涂装置、高压气体喷嘴装置和高温干燥装置,高压气体喷嘴装置设置在溶液喷涂装置和高温干燥装置之间,第一传送装置横跨第一密闭腔室。溶剂沉积部分包括传动轴装置、第二密闭腔室以及加热装置和溶剂蒸发装置,溶剂蒸发装置靠近溶液喷涂清洗部分,传动轴装置的转动轴从上下设置的加热装置和溶剂蒸发装置之间通过。本发明还涉及一种钙钛矿薄膜后处理设备的使用方法和应用。本发明对已制备了钙钛矿薄膜基片进行后续清洗和退火处理,对钙钛矿薄膜的缺陷进行修补处理,进一步提高钙钛矿薄膜的质量。
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Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)