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1. (WO2018219032) PLAQUE DE MASQUE, SUBSTRAT ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE
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N° de publication : WO/2018/219032 N° de la demande internationale : PCT/CN2018/080962
Date de publication : 06.12.2018 Date de dépôt international : 28.03.2018
CIB :
G03F 1/82 (2012.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
1
Originaux pour la production par voie photomécanique de surfaces texturées, p.ex. masques, photomasques ou réticules; Masques vierges ou pellicules à cet effet; Réceptacles spécialement adaptés à ces originaux; Leur préparation
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Procédés de préparation non couverts par les groupes G03F1/20-G03F1/50105
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Procédés auxiliaires, p.ex. nettoyage ou inspection
Déposants :
京东方科技集团股份有限公司 BOE TECHNOLOGY GROUP CO., LTD. [CN/CN]; 中国北京市 朝阳区酒仙桥路10号 No. 10 Jiuxianqiao Rd., Chaoyang District Beijing 100015, CN
重庆京东方光电科技有限公司 CHONGQING BOE OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD. [CN/CN]; 中国重庆市 北碚区水土高新技术产业园云汉大道7号 No. 7 Yunhan Rd., Shuitu Hi-tech Industrial Zone, Beibei District Chongqing 400714, CN
Inventeurs :
胡小弢 HU, Xiaotao; CN
毕瑞琳 BI, Ruilin; CN
黎敏 LI, Min; CN
Mandataire :
北京同达信恒知识产权代理有限公司 TDIP & PARTNERS; 中国北京市海淀区宝盛南路1号院20号楼8层101-01 101-01, 8/F, Building 20, No.1 Baosheng South Road Haidian District Beijing 100192, CN
Données relatives à la priorité :
201710392813.327.05.2017CN
Titre (EN) MASK PLATE, SUBSTRATE AND DISPLAY DEVICE
(FR) PLAQUE DE MASQUE, SUBSTRAT ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE
(ZH) 一种掩模板、基板以及显示装置
Abrégé :
(EN) A mask plate, a substrate and a display device. The mask plate is provided with a plurality of light-transmitting regions (2), each light-transmitting region (2) being provided with a plurality of corners (3), and the transition between two sides corresponding to each corner (3) being realized by means of a smooth curve (30).
(FR) L'invention concerne une plaque de masque, un substrat et un dispositif d'affichage. La plaque de masque est pourvue d'une pluralité de régions de transmission de lumière (2), chaque région de transmission de lumière (2) étant pourvue d'une pluralité de coins (3), et la transition entre deux côtés correspondant à chaque coin (3) est réalisée au moyen d'une courbe continue (30).
(ZH) 一种掩模板、基板以及显示装置,掩模板具有多个透光区(2),每个透光区(2)具有多个角落(3),每个角落(3)对应的两个边之间通过圆滑曲线(30)过渡。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)