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1. (WO2018218720) PROCÉDÉ DE PRÉPARATION DE MICROSTRUCTURE DU TYPE ŒIL DE PAPILLON NOCTURNE ("MOTH EYE"), DE SUBSTRAT ANTIREFLET ET DE PRODUIT ÉLECTRONIQUE
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N° de publication : WO/2018/218720 N° de la demande internationale : PCT/CN2017/090497
Date de publication : 06.12.2018 Date de dépôt international : 28.06.2017
CIB :
G02B 1/118 (2015.01) ,H01L 33/00 (2010.01)
[IPC code unknown for G02B 1/118]
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
33
Dispositifs à semi-conducteurs ayant au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface, spécialement adaptés pour l'émission de lumière; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de ces dispositifs ou de leurs parties constitutives; Détails
Déposants :
武汉华星光电技术有限公司 WUHAN CHINA STAR OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD [CN/CN]; 中国湖北省武汉市 东湖开发区高新大道666号生物城C5栋 Building C5 Biolake of Optics Valley, No. 666 Gaoxin Avenue, East Lake High-tech Development Zone Wuhan, Hubei 430070, CN
Inventeurs :
杨勇 YANG, Yong; CN
Mandataire :
深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) CHINA WISPRO INTELLECTUAL PROPERTY LLP.; 中国广东省深圳市 南山区高新区粤兴三道8号中国地质大学产学研基地中地大楼A806 Room A806 Zhongdi Building China University of Geosciences Base, No. 8 Yuexing 3rd Road, High-Tech Industrial Estate, Nanshan District Shenzhen, Guangdong 518057, CN
Données relatives à la priorité :
201710404974.X01.06.2017CN
Titre (EN) PREPARATION METHOD FOR MOTH EYE MICROSTRUCTURE, ANTI-REFLECTION SUBSTRATE AND ELECTRONIC PRODUCT
(FR) PROCÉDÉ DE PRÉPARATION DE MICROSTRUCTURE DU TYPE ŒIL DE PAPILLON NOCTURNE ("MOTH EYE"), DE SUBSTRAT ANTIREFLET ET DE PRODUIT ÉLECTRONIQUE
(ZH) 一种蛾眼微结构的制备方法、抗反射基板及电子产品
Abrégé :
(EN) A preparation method for a moth eye microstructure (207), an anti-reflection substrate and an electronic product, relating to the field of display technology. The method comprises: providing a base layer (201); forming a metal film layer (202) on the base layer; etching the metal film layer (202) to obtain an anti-reflection moth eye microstructure pattern (206); and oxidizing the metal film layer(202) to further form the anti-reflection moth eye microstructure (207) on the base layer (201). According to the method, an ideal microstructure morphology and depth-to-width ratio can be obtained through etching, and the moth eye microstructure (207) with high depth-to-width ratio can be prepared.
(FR) L'invention concerne un procédé de préparation d'une microstructure du type œil papillon nocturne ("moth eye") (207), d'un substrat antireflet et d'un produit électronique, se rapportant au domaine de la technologie d'affichage. Le procédé comprend les étapes consistant à : fournir une couche de base (201); former une couche mince métallique (202) sur la couche de base; graver la couche mince métallique (202) pour obtenir un motif de microstructure antireflet du type œil de papillon nocturne (206); et oxyder la couche mince métallique (202) pour poursuivre la formation de la microstructure antireflet de type œil de papillon nocturne (207) sur la couche de base (201). Selon ce procédé, il est possible d'obtenir par gravure une morphologie de microstructure idéale et un rapport profondeur/largeur idéal, et il est possible de préparer la microstructure du type œil de papillon nocturne (207) possédant un rapport élevé de profondeur/largeur.
(ZH) 一种蛾眼微结构(207)的制备方法、抗反射基板及电子产品,涉及显示技术领域。所述方法包括:提供基层(201);在基层上形成金属膜层(202);对金属膜层(202)进行蚀刻,以得到蛾眼抗反射微结构图案(206);对金属膜层(202)进行氧化,进而在基层(201)上形成蛾眼抗反射微结构(207)。通过上述方式能够蚀刻到理想的微结构形貌和深宽比,制备出高深宽比的蛾眼微结构(207)。
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Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)