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1. (WO2018205345) MASQUE ET PROCÉDÉ DE PRÉPARATION DE SUBSTRAT DE RÉSEAU

Pub. No.:    WO/2018/205345    International Application No.:    PCT/CN2017/088614
Publication Date: Fri Nov 16 00:59:59 CET 2018 International Filing Date: Sat Jun 17 01:59:59 CEST 2017
IPC: H01L 21/77
G03F 1/54
Applicants: SHENZHEN CHINA STAR OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD.
深圳市华星光电技术有限公司
Inventors: GAO, Dongzi
高冬子
Title: MASQUE ET PROCÉDÉ DE PRÉPARATION DE SUBSTRAT DE RÉSEAU
Abstract:
L'invention concerne un masque et un procédé de préparation d'un substrat de réseau. Le masque comprend : au moins deux premières sous-régions (101) qui sont agencées à des intervalles et qui sont des régions semi-transparentes; au moins une seconde sous-région (201) disposée dans l'espace entre les au moins deux premières sous-régions et ayant une transmittance de lumière supérieure à celle des premières sous-régions. Lorsqu'une photorésine est soumise à une exposition, l'épaisseur de photorésine exposée dans la seconde sous-région est supérieure à celle exposée dans les premières sous-régions; et lorsque le substrat de réseau est fabriqué, et au moins un canal du substrat de réseau se trouve à la position correspondant à l'au moins une seconde sous-région. Au moyen du masque, l'exposition et le temps de calcination peuvent être réduits et l'énergie peut être économisée pendant la fabrication du substrat de réseau.