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1. (WO2018204168) FLUX DE MODELAGE TRIPLE DE LITHOGRAPHIE PAR IMMERSION À DOUBLE ESPACEUR ET PROCÉDÉ

Pub. No.:    WO/2018/204168    International Application No.:    PCT/US2018/029702
Publication Date: Fri Nov 09 00:59:59 CET 2018 International Filing Date: Sat Apr 28 01:59:59 CEST 2018
IPC: H01L 21/033
H01L 21/311
Applicants: ADVANCED MICRO DEVICES, INC.
Inventors: SCHULTZ, Richard T.
Title: FLUX DE MODELAGE TRIPLE DE LITHOGRAPHIE PAR IMMERSION À DOUBLE ESPACEUR ET PROCÉDÉ
Abstract:
La présente invention concerne un système et un procédé de fabrication de motifs métalliques. De multiples mandrins sont formés sur une première couche de polysilicium qui est au-dessus d'une première couche d'oxyde. Chaque mandrin utilise un second polysilicium au-dessus d'un premier nitrure. Un oxyde d'espacement et un nitrure d'espacement sont formés sur les parois latérales des mandrins pour créer des espaceurs doubles . Une seconde couche d'oxyde est déposée, suivie par l'élimination de couches jusqu'à ce que le premier nitrure dans les mandrins soit atteint. Des zones sont gravées sur la base d'un procédé sélectionné parmi de multiples procédés disponibles jusqu'à ce que la première couche d'oxyde soit gravée en formant des tranchées pour les motifs métalliques. Les matériaux restants sur la première couche d'oxyde sont éliminés, puis un dépôt de métal est effectué dans les tranchées dans la première couche d'oxyde.