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1. (WO2018203540) COMPOSITION FILMOGÈNE DE SOUS-COUCHE DE RÉSERVE
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N° de publication : WO/2018/203540 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/017314
Date de publication : 08.11.2018 Date de dépôt international : 27.04.2018
CIB :
G03F 7/11 (2006.01) ,C08G 59/18 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
09
caractérisés par des détails de structure, p.ex. supports, couches auxiliaires
11
avec des couches de recouvrement ou des couches intermédiaires, p.ex. couches d'ancrage
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
G
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES OBTENUS PAR DES RÉACTIONS AUTRES QUE CELLES FAISANT INTERVENIR UNIQUEMENT DES LIAISONS NON SATURÉES CARBONE-CARBONE
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Polycondensats contenant plusieurs groupes époxyde par molécule; Macromolécules obtenues par réaction de polycondensats polyépoxydés avec des composés monofonctionnels à bas poids moléculaire; Macromolécules obtenues par polymérisation de composés contenant plusieurs groupes époxyde par molécule en utilisant des agents de durcissement ou des catalyseurs qui réagissent avec les groupes époxyde
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Macromolécules obtenues par polymérisation à partir de composés contenant plusieurs groupes époxyde par molécule en utilisant des agents de durcissement ou des catalyseurs qui réagissent avec les groupes époxyde
Déposants :
日産化学株式会社 NISSAN CHEMICAL CORPORATION [JP/JP]; 東京都中央区日本橋二丁目5番1号 5-1, Nihonbashi 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1036119, JP
Inventeurs :
緒方 裕斗 OGATA, Hiroto; JP
橋本 雄人 HASHIMOTO, Yuto; JP
田村 護 TAMURA, Mamoru; JP
岸岡 高広 KISHIOKA, Takahiro; JP
Mandataire :
特許業務法人はなぶさ特許商標事務所 HANABUSA PATENT & TRADEMARK OFFICE; 東京都千代田区神田駿河台3丁目2番地 新御茶ノ水アーバントリニティ Shin-Ochanomizu Urban Trinity, 2, Kandasurugadai 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010062, JP
Données relatives à la priorité :
2017-09200802.05.2017JP
Titre (EN) RESIST UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION
(FR) COMPOSITION FILMOGÈNE DE SOUS-COUCHE DE RÉSERVE
(JA) レジスト下層膜形成組成物
Abrégé :
(EN) [Problem] To provide a resist underlayer film-forming composition that functions as an anti-reflection film during exposure, that can have recessed portions having a narrow space and a high aspect ratio embedded therein, and that is highly resistant to aqueous hydrogen peroxide. [Solution] This resist underlayer film-forming composition contains a resin, a compound represented by formula (1a) or formula (1b), and a solvent, wherein the composition contains 0.01-60 mass% of the compound represented by formula (1a) or formula (1b) with respect to the resin. (In the formulas, X represents a carbonyl group or a methylene group, l and m each independently represent an integer of 0-5 satisfying a relationship formula 3 ≤ l+m ≤ 10, and n represents an integer of 2-5.)
(FR) Le problème décrit par la présente invention est de fournir une composition filmogène de sous-couche de réserve qui sert de film antireflet pendant l'exposition, qui peut comporter des parties en retrait intégrées présentant un espace étroit et un rapport d'aspect élevé, et qui est hautement résistante au peroxyde d'hydrogène aqueux. La solution selon l'invention porte sur une composition filmogène de sous-couche de réserve qui contient une résine, un composé représenté par la formule (1a) ou (1b), et un solvant, la composition renfermant 0,01 à 60 % en masse du composé représenté par la formule (1a) ou (1b) par rapport à la résine. (Dans les formules, X représente un groupe carbonyle ou un groupe méthylène, l et m représentent chacun indépendamment un nombre entier de 0 à 5 satisfaisant une formule de relation 3 ≤ l + m ≤ 10, et n représente un nombre entier de 2 à 5.)
(JA) 【課題】露光時に反射防止膜として機能すると共に、狭スペース及び高アスペクト比の凹部を埋め込むことができ、更に過酸化水素水溶液に対する耐性に優れた、レジスト下層膜形成組成物を提供する。 【解決手段】 樹脂、下記式(1a)又は式(1b)で表される化合物、及び溶剤を含み、前記樹脂に対し、前記式(1a)又は式(1b)で表される化合物を0.01質量%乃至60質量%含有する、レジスト下層膜形成組成物。(式中、Xはカルボニル基又はメチレン基を表し、l及びmはそれぞれ独立に3≦l+m≦10の関係式を満たす0乃至5の整数を表し、nは2乃至5の整数を表す。)
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)