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1. (WO2018203362) DISPOSITIF DE TRAITEMENT ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT

Pub. No.:    WO/2018/203362    International Application No.:    PCT/JP2017/017119
Publication Date: Fri Nov 09 00:59:59 CET 2018 International Filing Date: Tue May 02 01:59:59 CEST 2017
IPC: B23K 26/08
B23K 26/00
B23K 26/066
Applicants: NIKON CORPORATION
株式会社ニコン
Inventors: SHIBAZAKI, Yuichi
柴崎 祐一
Title: DISPOSITIF DE TRAITEMENT ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT
Abstract:
La présente invention concerne un dispositif de traitement comprenant : un système de premier étage ayant une table (12) sur laquelle est montée une pièce (W), le système de premier étage déplaçant la pièce qui est maintenue sur la table ; un système (500) de rayonnement de faisceau comprenant un système optique de condensation (530) qui émet un faisceau LB ; et un dispositif de commande permettant de commander le système de premier étage et le système de rayonnement. Le dispositif de commande commande la table et le système de rayonnement de sorte à effectuer un processus prédéfini sur une partie cible de la pièce tandis que la table et le faisceau provenant du système optique de condensation sont déplacés l'un par rapport à l'autre. La répartition de l'intensité du faisceau au niveau d'une première surface (MP) sur le côté surface d'émission du système optique de condensation, et/ou la répartition de l'intensité du faisceau au niveau d'une seconde surface, dans laquelle la position du système optique de condensation dans la direction de l'axe optique (AX) est différente de celle de la première surface, peuvent être modifiées.