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1. (WO2018202414) PROCÉDÉ, SUBSTRAT ET APPAREIL DE MESURE DES PERFORMANCES DE MÉTROLOGIE OPTIQUE
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N° de publication : WO/2018/202414 N° de la demande internationale : PCT/EP2018/059699
Date de publication : 08.11.2018 Date de dépôt international : 17.04.2018
CIB :
G03F 7/20 (2006.01) ,G03F 9/00 (2006.01)
[IPC code unknown for G03F 7/20][IPC code unknown for G03F 9]
Déposants :
ASML HOLDING N.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
Inventeurs :
MONTILLA, Leonardo, Gabriel; US
SHOME, Krishanu; US
Mandataire :
SLENDERS, Peter; NL
Données relatives à la priorité :
62/501,51504.05.2017US
Titre (EN) METHOD, SUBSTRATE AND APPARATUS TO MEASURE PERFORMANCE OF OPTICAL METROLOGY
(FR) PROCÉDÉ, SUBSTRAT ET APPAREIL DE MESURE DES PERFORMANCES DE MÉTROLOGIE OPTIQUE
Abrégé :
(EN) A method including illuminating a product test substrate with radiation from a component, wherein the product test substrate does not have a device pattern etched therein and yields a non-zero sensitivity when illuminated, the non-zero sensitivity representing a change in an optical response characteristic of the product test substrate with respect to a change in a characteristic of the radiation; measuring at least a part of the radiation redirected by the product test substrate to determine a parameter value; and taking an action with respect to the component based on the parameter value.
(FR) La présente invention concerne un procédé consistant : à éclairer un substrat d'essai de produit à l'aide d'un rayonnement provenant d'un composant, le substrat d'essai de produit ne comprenant pas de gravure de motif de dispositif et produisant une sensibilité non nulle lorsqu'il est éclairé, la sensibilité non nulle représentant une variation dans une caractéristique de réponse optique du substrat d'essai de produit par rapport à une variation d'une caractéristique du rayonnement ; à mesurer au moins une partie du rayonnement redirigé par le substrat d'essai de produit de manière à déterminer une valeur de paramètre ; et à réaliser une action par rapport au composant sur la base de la valeur de paramètre.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)