Certains contenus de cette application ne sont pas disponibles pour le moment.
Si cette situation persiste, veuillez nous contacter àObservations et contact
1. (WO2018202388) DÉTERMINATION DE PARAMÈTRE DE MÉTROLOGIE ET SÉLECTION DE RECETTE DE MÉTROLOGIE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication : WO/2018/202388 N° de la demande internationale : PCT/EP2018/059183
Date de publication : 08.11.2018 Date de dépôt international : 10.04.2018
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20
Exposition; Appareillages à cet effet
Déposants :
ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
Inventeurs :
JAVAHERI, Narjes; NL
HAJIAHMADI, Mohammadreza; NL
ZWIER, Olger, Victor; NL
SANGUINETTI, Gonzalo, Roberto; NL
Mandataire :
BROEKEN, Petrus; NL
Données relatives à la priorité :
18152479.419.01.2018EP
62/501,04703.05.2017US
Titre (EN) METROLOGY PARAMETER DETERMINATION AND METROLOGY RECIPE SELECTION
(FR) DÉTERMINATION DE PARAMÈTRE DE MÉTROLOGIE ET SÉLECTION DE RECETTE DE MÉTROLOGIE
Abrégé :
(EN) A method of determining a patterning process parameter from a metrology target, the method including: obtaining a plurality of values of diffraction radiation from the metrology target, each value of the plurality of values corresponding to a different illumination condition of a plurality of illumination conditions of illumination radiation for the target; and using the combination of values to determine a same value of the patterning process parameter for the target.
(FR) La présente invention concerne un procédé de détermination d'un paramètre de procédé de formation de motifs à partir d'une cible de métrologie, le procédé consistant à : obtenir une pluralité de valeurs de rayonnement par diffraction à partir de la cible de métrologie, chaque valeur de la pluralité de valeurs correspondant à une condition d'éclairage différente parmi une pluralité de conditions d'éclairage de rayonnement d'éclairage pour la cible ; et utiliser la combinaison de valeurs pour déterminer une même valeur du paramètre de procédé de formation de motifs pour la cible.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)