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1. (WO2018200946) COMPOSITIONS CONTENANT DES POINTS QUANTIQUES PRÉSENTANT UNE RÉSISTANCE SUPÉRIEURE À LA DÉGRADATION DUE À UNE MISE EN CONTACT AVEC DES CONTAMINANTS ENVIRONNEMENTAUX TOUT EN CONSERVANT LEURS APTITUDES DE GÉNÉRATION DE LUMIÈRE
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N° de publication : WO/2018/200946 N° de la demande internationale : PCT/US2018/029783
Date de publication : 01.11.2018 Date de dépôt international : 27.04.2018
CIB :
C09K 11/02 (2006.01) ,C09K 11/08 (2006.01) ,C09K 11/54 (2006.01) ,C08K 3/01 (2018.01) ,C08K 3/014 (2018.01) ,C08K 3/10 (2018.01) ,C08L 33/08 (2006.01) ,C08L 33/10 (2006.01) ,B82Y 20/00 (2011.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
09
COLORANTS; PEINTURES; PRODUITS À POLIR; RÉSINES NATURELLES; ADHÉSIFS; COMPOSITIONS NON PRÉVUES AILLEURS; UTILISATIONS DE SUBSTANCES, NON PRÉVUES AILLEURS
K
SUBSTANCES POUR DES APPLICATIONS NON PRÉVUES AILLEURS; APPLICATIONS DE SUBSTANCES NON PRÉVUES AILLEURS
11
Substances luminescentes, p.ex. électroluminescentes, chimiluminescentes
02
Emploi de substances particulières comme liants, revêtements de particules ou milieux de suspension
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
09
COLORANTS; PEINTURES; PRODUITS À POLIR; RÉSINES NATURELLES; ADHÉSIFS; COMPOSITIONS NON PRÉVUES AILLEURS; UTILISATIONS DE SUBSTANCES, NON PRÉVUES AILLEURS
K
SUBSTANCES POUR DES APPLICATIONS NON PRÉVUES AILLEURS; APPLICATIONS DE SUBSTANCES NON PRÉVUES AILLEURS
11
Substances luminescentes, p.ex. électroluminescentes, chimiluminescentes
08
contenant des substances inorganiques luminescentes
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
09
COLORANTS; PEINTURES; PRODUITS À POLIR; RÉSINES NATURELLES; ADHÉSIFS; COMPOSITIONS NON PRÉVUES AILLEURS; UTILISATIONS DE SUBSTANCES, NON PRÉVUES AILLEURS
K
SUBSTANCES POUR DES APPLICATIONS NON PRÉVUES AILLEURS; APPLICATIONS DE SUBSTANCES NON PRÉVUES AILLEURS
11
Substances luminescentes, p.ex. électroluminescentes, chimiluminescentes
08
contenant des substances inorganiques luminescentes
54
contenant du zinc ou du cadmium
[IPC code unknown for C08K 3/01][IPC code unknown for C08K 3/014]
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
K
EMPLOI COMME ADJUVANTS DE SUBSTANCES NON MACROMOLÉCULAIRES INORGANIQUES OU ORGANIQUES
3
Emploi d'ingrédients inorganiques
10
Composés métalliques
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
L
COMPOSITIONS CONTENANT DES COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
33
Compositions contenant des homopolymères ou des copolymères de composés possédant un ou plusieurs radicaux aliphatiques non saturés, chacun ne contenant qu'une seule liaison double carbone-carbone et un seul étant terminé par un seul radical carboxyle, ou ses sels, anhydrides, esters, amides, imides ou nitriles; Compositions contenant des dérivés de tels polymères
04
Homopolymères ou copolymères des esters
06
d'esters ne contenant que du carbone, de l'hydrogène et de l'oxygène, l'oxygène, faisant uniquement partie du radical carboxyle
08
Homopolymères ou copolymères des esters de l'acide acrylique
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
L
COMPOSITIONS CONTENANT DES COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
33
Compositions contenant des homopolymères ou des copolymères de composés possédant un ou plusieurs radicaux aliphatiques non saturés, chacun ne contenant qu'une seule liaison double carbone-carbone et un seul étant terminé par un seul radical carboxyle, ou ses sels, anhydrides, esters, amides, imides ou nitriles; Compositions contenant des dérivés de tels polymères
04
Homopolymères ou copolymères des esters
06
d'esters ne contenant que du carbone, de l'hydrogène et de l'oxygène, l'oxygène, faisant uniquement partie du radical carboxyle
10
Homopolymères ou copolymères des esters de l'acide méthacrylique
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
82
NANOTECHNOLOGIE
Y
UTILISATION OU APPLICATIONS SPÉCIFIQUES DES NANOSTRUCTURES; MESURE OU ANALYSE DES NANOSTRUCTURES; FABRICATION OU TRAITEMENT DES NANOSTRUCTURES
20
Nano-optique, p.ex. optique quantique ou cristaux photoniques
Déposants :
CHAO, Lirong [US/US]; US (US)
HENKEL IP & HOLDING GMBH [DE/DE]; Henkelstrasse 67 40589 Duesseldorf, DE
Inventeurs :
CHAO, Lirong; US
SUEN, Chyi-Shan; US
Mandataire :
BAUMAN, Steven C.; US
PIOTROWSKI, James E.; US
COON, Taylor; US
CAMERON, Mary K.; US
LEHMANN, Sun Hee; US
Données relatives à la priorité :
62/491,28728.04.2017US
Titre (EN) QUANTUM DOT-CONTAINING COMPOSITIONS HAVING SUPERIOR RESISTANCE TO DEGRADATION FROM EXPOSURE TO ENVIRONMENTAL CONTAMINANTS WHILE MAINTAINING THEIR LIGHT GENERATING CAPABILITIES
(FR) COMPOSITIONS CONTENANT DES POINTS QUANTIQUES PRÉSENTANT UNE RÉSISTANCE SUPÉRIEURE À LA DÉGRADATION DUE À UNE MISE EN CONTACT AVEC DES CONTAMINANTS ENVIRONNEMENTAUX TOUT EN CONSERVANT LEURS APTITUDES DE GÉNÉRATION DE LUMIÈRE
Abrégé :
(EN) Quantum dot-containing composition, films of quantum dot-containing compositions and assemblies fabricated therewith, all of which having superior resistance to degradation from environmental contaminates, such as air and/or moisture, are provided.
(FR) L'invention concerne une composition contenant des points quantiques, des films de compositions contenant des points quantiques et des ensembles fabriqués à l'aide de ceux-ci, présentant tous une résistance supérieure à la dégradation due à des contaminants environnementaux, tels que l'air et/ou l'humidité.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)