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1. (WO2018199746) MICROSCOPIE À FORCE ATOMIQUE SOUTERRAINE À ONDES ULTRASONORES GUIDÉES
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N° de publication : WO/2018/199746 N° de la demande internationale : PCT/NL2018/050256
Date de publication : 01.11.2018 Date de dépôt international : 23.04.2018
CIB :
G01Q 60/32 (2010.01) ,G01N 29/06 (2006.01)
G PHYSIQUE
01
MÉTROLOGIE; ESSAIS
Q
TECHNIQUES OU APPAREILS À SONDE À BALAYAGE; APPLICATIONS DES TECHNIQUES DE SONDE À BALAYAGE, p.ex. MICROSCOPIE À SONDE À BALAYAGE [SPM]
60
Types particuliers de microscopie à sonde à balayage SPM [Scanning-Probe Microscopy] ou appareils à cet effet; Composants essentiels de ceux-ci
24
Microscopie à forces atomiques AFM [Atomic Force Microscopy] ou appareils à cet effet, p.ex. sondes AFM
32
Mode vibrant
G PHYSIQUE
01
MÉTROLOGIE; ESSAIS
N
RECHERCHE OU ANALYSE DES MATÉRIAUX PAR DÉTERMINATION DE LEURS PROPRIÉTÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES
29
Recherche ou analyse des matériaux par l'emploi d'ondes ultrasonores, sonores ou infrasonores; Visualisation de l'intérieur d'objets par transmission d'ondes ultrasonores ou sonores à travers l'objet
04
Analyse de solides
06
Visualisation de l'intérieur, p.ex. microscopie acoustique
Déposants :
NEDERLANDSE ORGANISATIE VOOR TOEGEPAST-NATUURWETENSCHAPPELIJK ONDERZOEK TNO [NL/NL]; Anna van Buerenplein 1 2595 DA 's-Gravenhage, NL
Inventeurs :
PIRAS, Daniele; NL
VAN NEER, Paul Louis Maria Joseph; NL
SADEGHIAN MARNANI, Hamed; NL
Mandataire :
JANSEN, C.M.; V.O. P.O. Box 87930 2508 DH Den Haag, NL
Données relatives à la priorité :
17167754.524.04.2017EP
Titre (EN) SUBSURFACE ATOMIC FORCE MICROSCOPY WITH GUIDED ULTRASOUND WAVES
(FR) MICROSCOPIE À FORCE ATOMIQUE SOUTERRAINE À ONDES ULTRASONORES GUIDÉES
Abrégé :
(EN) Methods and systems for subsurface imaging of nanostructures buried inside a plate shaped substrate. An ultrasonic generator (30) at a side face (10b) of the substrate (10) is used to couple ultrasound waves (W) into an interior of the substrate (10). The interior comprises or forms a waveguide (10g) for propagating the ultrasound waves (W) in a direction (X) along a length of the substrate (10) transverse to the side face (10b). The nanostructures (10η) are imaged using an AFM tip (21) to measure an effect (E) at the top surface (10a) caused by direct or indirect interaction of the ultrasound waves (W) with the buried nanostructures (10η).
(FR) L'invention concerne des procédés et des systèmes d'imagerie souterraine de nanostructures enterrées à l'intérieur d'un substrat en forme de plaque. Un générateur d'ultrasons (30) au niveau d'une face latérale (10b) du substrat (10) permet de coupler des ondes ultrasonores (W) à l'intérieur du substrat (10). L'intérieur comprend ou forme un guide d'onde (10g) permettant de propager les ondes ultrasonores (W) dans une direction (X) le long d'une longueur du substrat (10) transversale à la face latérale (10b). Les nanostructures (10η) sont imagées à l'aide d'une pointe AFM (21) afin de mesurer un effet (E) au niveau de la surface supérieure (10a) provoqué par une interaction directe ou indirecte des ondes ultrasonores (W) avec les nanostructures enterrées (10η).
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)