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1. (WO2018199642) COMPOSÉ DE TRIAMINE MÉTALLIQUE, PROCÉDÉ DE PRÉPARATION DE CE DERNIER, ET COMPOSITION CONTENANT LEDIT COMPOSÉ PERMETTANT DE DÉPOSER UN FILM MINCE CONTENANT DU MÉTAL
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N° de publication : WO/2018/199642 N° de la demande internationale : PCT/KR2018/004841
Date de publication : 01.11.2018 Date de dépôt international : 26.04.2018
CIB :
C07F 7/28 (2006.01) ,C07F 7/00 (2006.01) ,C07F 11/00 (2006.01) ,C07F 9/00 (2006.01) ,C23C 16/40 (2006.01) ,C23C 16/455 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
07
CHIMIE ORGANIQUE
F
COMPOSÉS ACYCLIQUES, CARBOCYCLIQUES OU HÉTÉROCYCLIQUES CONTENANT DES ÉLÉMENTS AUTRES QUE LE CARBONE, L'HYDROGÈNE, LES HALOGÈNES, L'OXYGÈNE, L'AZOTE, LE SOUFRE, LE SÉLÉNIUM OU LE TELLURE
7
Composés contenant des éléments du 4ème groupe de la classification périodique
28
Composés du titane
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
07
CHIMIE ORGANIQUE
F
COMPOSÉS ACYCLIQUES, CARBOCYCLIQUES OU HÉTÉROCYCLIQUES CONTENANT DES ÉLÉMENTS AUTRES QUE LE CARBONE, L'HYDROGÈNE, LES HALOGÈNES, L'OXYGÈNE, L'AZOTE, LE SOUFRE, LE SÉLÉNIUM OU LE TELLURE
7
Composés contenant des éléments du 4ème groupe de la classification périodique
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
07
CHIMIE ORGANIQUE
F
COMPOSÉS ACYCLIQUES, CARBOCYCLIQUES OU HÉTÉROCYCLIQUES CONTENANT DES ÉLÉMENTS AUTRES QUE LE CARBONE, L'HYDROGÈNE, LES HALOGÈNES, L'OXYGÈNE, L'AZOTE, LE SOUFRE, LE SÉLÉNIUM OU LE TELLURE
11
Composés contenant des éléments du 6ème groupe de la classification périodique
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
07
CHIMIE ORGANIQUE
F
COMPOSÉS ACYCLIQUES, CARBOCYCLIQUES OU HÉTÉROCYCLIQUES CONTENANT DES ÉLÉMENTS AUTRES QUE LE CARBONE, L'HYDROGÈNE, LES HALOGÈNES, L'OXYGÈNE, L'AZOTE, LE SOUFRE, LE SÉLÉNIUM OU LE TELLURE
9
Composés contenant des éléments du 5ème groupe de la classification périodique
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
23
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
C
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
16
Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c. à d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur (CVD)
22
caractérisé par le dépôt de matériaux inorganiques, autres que des matériaux métalliques
30
Dépôt de composés, de mélanges ou de solutions solides, p.ex. borures, carbures, nitrures
40
Oxydes
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
23
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
C
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
16
Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c. à d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur (CVD)
44
caractérisé par le procédé de revêtement
455
caractérisé par le procédé utilisé pour introduire des gaz dans la chambre de réaction ou pour modifier les écoulements de gaz dans la chambre de réaction
Déposants :
(주)디엔에프 DNF CO., LTD. [KR/KR]; 대전시 대덕구 대화로132번길 142 142, Daehwa-ro 132beon-gil Daedeok-gu Daejeon 34366, KR
Inventeurs :
김명운 KIM, Myong Woon; KR
이상익 LEE, Sang Ick; KR
임상준 YIM, Sang Jun; KR
채원묵 CHAE, Won Mook; KR
박정현 PARK, Jeong Hyeon; KR
이강용 LEE, Kang Yong; KR
조아라 CHO, A Ra; KR
박중진 PARK, Joong Jin; KR
임행돈 LIM, Haeng Don; KR
Mandataire :
특허법인 플러스 PLUS INTERNATIONAL IP LAW FIRM; 대전시 서구 한밭대로 809 10층 10F, 809, Hanbat-daero Seo-gu Daejeon 35209, KR
Données relatives à la priorité :
10-2017-005429027.04.2017KR
10-2017-006280122.05.2017KR
10-2017-006333223.05.2017KR
10-2018-004787625.04.2018KR
Titre (EN) METAL TRIAMINE COMPOUND, METHOD FOR PREPARING SAME, AND COMPOSITION CONTAINING SAME FOR DEPOSITING METAL-CONTAINING THIN FILM
(FR) COMPOSÉ DE TRIAMINE MÉTALLIQUE, PROCÉDÉ DE PRÉPARATION DE CE DERNIER, ET COMPOSITION CONTENANT LEDIT COMPOSÉ PERMETTANT DE DÉPOSER UN FILM MINCE CONTENANT DU MÉTAL
(KO) 금속 트리아민 화합물, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 금속 함유 박막증착용 조성물
Abrégé :
(EN) The present invention relates to a novel metal triamine compound, a method for preparing the same, a composition containing the same for depositing a metal-containing thin film, and a method for forming a metal-containing thin film by using the same. The metal triamine compound of the present invention has excellent reactivity, thermal stability, high volatility, and high storage stability, and thus a high-density and high-purity metal-containing thin film can be easily formed by using the metal triamine compound as a metal-containing precursor.
(FR) La présente invention concerne un nouveau composé de triamine métallique, un procédé de préparation de ce dernier, une composition contenant ledit composé permettant de déposer un film mince contenant du métal, et un procédé de formation d'un film mince contenant du métal au moyen de cette dernière. Le composé de triamine métallique de la présente invention présente une excellente réactivité, une excellente stabilité thermique, une volatilité élevée et une stabilité au stockage élevée, et ainsi une couche mince contenant un métal de haute densité et de haute pureté peut être facilement formée au moyen du composé de triamine métallique en tant que précurseur contenant du métal.
(KO) 본 발명은 신규한 금속 트리아민 화합물, 이의 제조방법, 이를 포함하는 금속 함유 박막증착용 조성물 및 이를 이용한 금속 함유 박막의 제조방법에 관한 것으로, 본 발명의 금속 트리아민 화합물은 반응성이 뛰어나며 열적으로 안정하고, 휘발성이 높으며, 저장안정성이 높아 금속 함유 전구체로 이용하여 고밀도 및 고순도의 금속 함유 박막을 용이하게 제조할 수 있다.
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)