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1. (WO2018198707) PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT ET DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT METTANT EN ŒUVRE LE PROCÉDÉ

Pub. No.:    WO/2018/198707    International Application No.:    PCT/JP2018/014560
Publication Date: Fri Nov 02 00:59:59 CET 2018 International Filing Date: Fri Apr 06 01:59:59 CEST 2018
IPC: H01L 21/304
B24B 37/10
B24B 37/12
H01L 21/02
H01L 21/677
Applicants: EBARA CORPORATION
株式会社 荏原製作所
Inventors: SHINOZAKI, Hiroyuki
篠崎 弘行
SOBUKAWA, Hiroshi
曽布川 拓司
TSUJIMURA, Manabu
辻村 学
SAKATA, Keisuke
坂田 桂介
OTSU, Kazuya
大津 和也
KANEHIRA, Masayuki
金平 昌幸
Title: PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT ET DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT METTANT EN ŒUVRE LE PROCÉDÉ
Abstract:
La présente invention concerne un procédé permettant de diminuer la puissance de crête d'un dispositif de traitement de substrat. De plus, la présente invention concerne un procédé de fonctionnement de dispositif de traitement de substrat permettant de traiter un substrat tel qu'une tranche. Le procédé de traitement de substrat consiste à : calculer le temps de polissage attendu à partir d'une recette de polissage ; calculer le temps de lavage attendu à partir d'une recette de lavage ; calculer une valeur d'indice de débit de polissage en divisant le temps de polissage attendu par le nombre d'unités de polissage dans une section de polissage ; calculer une valeur d'indice de débit de lavage en divisant le temps de lavage attendu par le nombre de voies de lavage à l'intérieur d'une section de lavage ; et abaisser la valeur de consigne pour l'accélération de fonctionnement d'un système de transport de substrat côté lavage si la valeur d'indice de débit de polissage est supérieure à la valeur d'indice de débit de lavage, tout en abaissant la valeur de consigne pour l'accélération de fonctionnement d'un système de transport de substrat côté polissage si la valeur d'indice de débit de lavage est supérieure à la valeur d'indice de débit de polissage.