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1. (WO2018198052) PROCÉDÉ DE TRAÇAGE DE MOTIFS D’UN REVÊTEMENT SUR UNE SURFACE ET DISPOSITIF INCLUANT UN REVÊTEMENT À MOTIFS
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N° de publication : WO/2018/198052 N° de la demande internationale : PCT/IB2018/052881
Date de publication : 01.11.2018 Date de dépôt international : 26.04.2018
CIB :
H01L 51/52 (2006.01) ,H01L 51/54 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
51
Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
50
spécialement adaptés pour l'émission de lumière, p.ex. diodes émettrices de lumière organiques (OLED) ou dispositifs émetteurs de lumière à base de polymères (PLED)
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Détails des dispositifs
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
51
Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
50
spécialement adaptés pour l'émission de lumière, p.ex. diodes émettrices de lumière organiques (OLED) ou dispositifs émetteurs de lumière à base de polymères (PLED)
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Emploi de matériaux spécifiés
Déposants :
CHANG, Yi-Lu [CA/CA]; CA
WANG, Qi [CA/CA]; CA
GAO, Dong [CA/CA]; CA
GENIN, Scott Nicholas [CA/CA]; CA
HELANDER, Michael [CA/CA]; CA
QIU, Jacky [CA/CA]; CA
WANG, Zhibin [CA/CA]; CA
OTI LUMIONICS INC. [CA/CA]; 100 College Street, Unit 351 Toronto, Ontario M5G 1L5, CA
Inventeurs :
CHANG, Yi-Lu; CA
WANG, Qi; CA
GAO, Dong; CA
GENIN, Scott Nicholas; CA
HELANDER, Michael; CA
QIU, Jacky; CA
WANG, Zhibin; CA
Données relatives à la priorité :
62/490,56426.04.2017US
62/521,49918.06.2017US
62/573,02816.10.2017US
Titre (EN) METHOD FOR PATTERNING A COATING ON A SURFACE AND DEVICE INCLUDING A PATTERNED COATING
(FR) PROCÉDÉ DE TRAÇAGE DE MOTIFS D’UN REVÊTEMENT SUR UNE SURFACE ET DISPOSITIF INCLUANT UN REVÊTEMENT À MOTIFS
Abrégé :
(EN) An opto-electronic device includes: (1) a substrate including a first region and a second region; and (2) a conductive coating covering the second region of the substrate. The first region of the substrate is exposed from the conductive coating, and an edge the conductive coating adjacent to the first region of the substrate has a contact angle that is greater than about 20 degrees.
(FR) L’invention concerne un dispositif optoélectronique qui inclut : (1) un substrat incluant une première zone et une deuxième zone ; et (2) un revêtement conducteur recouvrant la deuxième zone du substrat. La première zone du substrat n’est pas recouverte par le revêtement conducteur, et un bord du revêtement conducteur adjacent à la première zone du substrat forme un angle de contact qui est supérieur à environ 20 degrés.
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)