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1. (WO2018197379) FORMULATION DE RÉSERVE NÉGATIVE POUR PRODUIRE DES PROFILS DE MOTIFS EN CONTRE-DÉPOUILLE

Pub. No.:    WO/2018/197379    International Application No.:    PCT/EP2018/060272
Publication Date: Fri Nov 02 00:59:59 CET 2018 International Filing Date: Tue Apr 24 01:59:59 CEST 2018
IPC: G03F 7/038
Applicants: MERCK PATENT GMBH
Inventors: MUKHERJEE, Anupama
TOUKHY, Medhat A.
Title: FORMULATION DE RÉSERVE NÉGATIVE POUR PRODUIRE DES PROFILS DE MOTIFS EN CONTRE-DÉPOUILLE
Abstract:
L'invention concerne une composition de résine photosensible négative, pouvant être insolée par un rayonnement de 365 nm et qui peut être développée dans une base aqueuse. Outre le solvant, cette composition comprend : a) une résine liante polymère filmogène phénolique soluble dans une base aqueuse ayant des groupes hydroxyle liés en anneau ; b) un générateur photoacide ; c) un agent de réticulation qui comprend une mélamine éthérifiée ; d) un colorant tel que décrit ici ; e) un système désactiveur constitué essentiellement d'un désactiveur d'amine, ou d'un mélange de tels désactiveurs d'amine, comme décrit. L'invention concerne également des processus d'utilisation de cette composition en tant que résine photosensible.