Certains contenus de cette application ne sont pas disponibles pour le moment.
Si cette situation persiste, veuillez nous contacter àObservations et contact
1. (WO2018197198) PROCÉDÉ ET APPAREIL DE MÉTROLOGIE ET PROGRAMME INFORMATIQUE ASSOCIÉ
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication : WO/2018/197198 N° de la demande internationale : PCT/EP2018/059108
Date de publication : 01.11.2018 Date de dépôt international : 10.04.2018
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20
Exposition; Appareillages à cet effet
Déposants :
ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
Inventeurs :
FAN, Chi-Hsiang; US
VAN DER SCHAAR, Maurits; NL
ZHANG, Youping; US
Mandataire :
BROEKEN, Petrus; NL
Données relatives à la priorité :
62/491,85728.04.2017US
Titre (EN) METROLOGY METHOD AND APPARATUS AND ASSOCIATED COMPUTER PROGRAM
(FR) PROCÉDÉ ET APPAREIL DE MÉTROLOGIE ET PROGRAMME INFORMATIQUE ASSOCIÉ
Abrégé :
(EN) A method of measuring n values of a parameter of interest (e.g., overlay) relating to a structure forming process, where n>1. The method includes performing n measurements on each of n+1 targets, each measurement performed with measurement radiation having a different wavelength and/or polarization combination and determining the n values for a parameter of interest from the n measurements of n+1 targets, each of the n values relating to the parameter of interest for a different pair of the layers. Each target includes n+1 layers, each layer including a periodic structure, the targets including at least n biased targets having at least one biased periodic structure formed with a positional bias relative to the other layers, the biased periodic structure being in at least a different one of the layers per biased target. Also disclosed is a substrate having such a target and a patterning device for forming such a target.
(FR) La présente invention concerne un procédé de mesure de n valeurs d'un paramètre d'intérêt (par exemple, un réseau de recouvrement) se rapportant à un processus de formation de structure, dans lequel n > 1. Le procédé consiste à effectuer n mesures sur chacune des n+1 cibles, chaque mesure étant effectuée avec un rayonnement de mesure présentant une combinaison différente de longueur d'onde et/ou de polarisation et à déterminer les n valeurs pour un paramètre d'intérêt à partir des n mesures des n+1 cibles, chacune des n valeurs se rapportant au paramètre d'intérêt pour une paire différente des couches. Chaque cible comprend n+1 couches, chaque couche comprenant une structure périodique, les cibles comprenant au moins n cibles polarisées ayant au moins une structure périodique polarisée formée avec une polarisation de position par rapport aux autres couches, la structure périodique polarisée se trouvant dans au moins une couche différente parmi les couches par cible polarisée. L'invention concerne également un substrat comprenant une telle cible et un dispositif de formation de motifs permettant de former une telle cible.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)