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1. (WO2018197191) PROCÉDÉ DE NETTOYAGE D'ÉLÉMENTS OPTIQUES POUR LA GAMME DES LONGUEURS D'ONDES ULTRAVIOLETTES
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N° de publication : WO/2018/197191 N° de la demande internationale : PCT/EP2018/058979
Date de publication : 01.11.2018 Date de dépôt international : 09.04.2018
CIB :
B08B 5/00 (2006.01) ,B08B 7/00 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01) ,G02B 27/00 (2006.01)
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
08
NETTOYAGE
B
NETTOYAGE EN GÉNÉRAL; PROTECTION CONTRE LA SALISSURE EN GÉNÉRAL
5
Nettoyage par des procédés impliquant l'utilisation d'un courant d'air ou de gaz
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
08
NETTOYAGE
B
NETTOYAGE EN GÉNÉRAL; PROTECTION CONTRE LA SALISSURE EN GÉNÉRAL
7
Nettoyage par des procédés non prévus dans une seule autre sous-classe ou un seul groupe de la présente sous-classe
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20
Exposition; Appareillages à cet effet
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
B
ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
27
Autres systèmes optiques; Autres appareils optiques
Déposants :
CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Str. 2 73447 Oberkochen, DE
Inventeurs :
FORCHT, Konstantin; DE
ROGALSKY, Olaf; DE
AMENT, Irene; DE
Mandataire :
WERNER & TEN BRINK - PATENTANWÄLTE PARTNERSCHAFTSGESELLSCHAFT MBB; Mendelstr. 11 48149 Münster, DE
Données relatives à la priorité :
10 2017 207 030.726.04.2017DE
Titre (EN) PROCESS FOR CLEANING OPTICAL ELEMENTS FOR THE ULTRAVIOLET WAVELENGTH RANGE
(FR) PROCÉDÉ DE NETTOYAGE D'ÉLÉMENTS OPTIQUES POUR LA GAMME DES LONGUEURS D'ONDES ULTRAVIOLETTES
(DE) VERFAHREN ZUR REINIGUNG VON OPTISCHEN ELEMENTEN FÜR DEN ULTRAVIOLETTEN WELLENLÄNGENBEREICH
Abrégé :
(EN) Proposed for cleaning optical elements for the ultraviolet wavelength range having at least one metal-containing layer on a surface is a process comprising the steps of: - supplying activated hydrogen to the surface having the metal-containing layer; subsequently supplying inert gas having an H2O volume fraction of below 5 ppm, preferably below 1 ppm, particularly preferably below 0.2 ppm. To this end, an optical system (1) may comprise a housing (122), a means for supply (161) of activated hydrogen, a means for supply (162) of inert gas having an H2O volume fraction of below 5 ppm and a discharge means (163) for pumping gas out of the housing (122).
(FR) L'invention concerne un procédé de nettoyage d'éléments optiques pour la gamme des longueurs d'ondes ultraviolettes, comportant au moins une couche contenant du métal sur une surface, comprenant les étapes suivantes : amenée d'hydrogène activé à la surface présentant la couche contenant du métal ; amenée de gaz inerte présentant une fraction volumique de H2O inférieure à 5 ppm, de préférence inférieure à 1 ppm, de manière particulièrement préférée inférieure à 0,2 ppm. A cet effet, un système optique (1) peut comprendre un boîtier (122), un dispositif d'amenée (161) d'hydrogène activé, un dispositif d'amenée (162) de gaz inerte présentant une fraction volumique de H2O inférieure à 5 ppm et un dispositif d'évacuation (163) pour pomper le gaz hors du boîtier (122).
(DE) Zur Reinigung von optischen Elementen für den ultravioletten Wellenlängenbereich mit mindestens einer metallhaltigen Schicht auf einer Oberfläche wird ein Verfahren vorgeschlagen mit den Schritten: - Zufuhr von aktiviertem Wasserstoff zu der Oberfläche mit metallhaltiger Schicht; - anschließend Zufuhr von Inertgas mit einem H2O-Volumenanteil von unter 5 ppm, bevorzugt unter 1 ppm besonders bevorzugt unter 0,2 ppm. Dazu kann ein optisches System (1) ein Gehäuse (122), eine Zufuhreinrichtung (161) von aktiviertem Wasserstoff, eine Zufuhreinrichtung (162) von Inertgas mit einem H2O-Volumenanteil von unter 5 ppm und eine Abfuhreinrichtung (163) zum Abpumpen von Gas aus dem Gehäuse (122) aufweisen.
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Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)