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1. (WO2018197146) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF

Pub. No.:    WO/2018/197146    International Application No.:    PCT/EP2018/057982
Publication Date: Fri Nov 02 00:59:59 CET 2018 International Filing Date: Thu Mar 29 01:59:59 CEST 2018
IPC: G03F 7/20
Applicants: ASML NETHERLANDS B.V.
Inventors: SIMONS, Hubertus, Johannes, Gertrudus
MOS, Everhardus, Cornelis
WEI, Xiuhong
MAHMOODI BARAM, Reza
YAGUBIZADE, Hadi
ZHANG, Yichen
Title: PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF
Abstract:
L'invention concerne un procédé de fabrication de dispositif comprenant les étapes suivantes : exposition d'un premier substrat en utilisant un appareil lithographique pour former une couche à motifs comprenant des premières caractéristiques ; traitement du premier substrat pour transférer les premières caractéristiques dans le premier substrat ; détermination des déplacements des premières caractéristiques à partir de leurs positions nominales dans le premier substrat ; détermination d'une correction pour compenser au moins partiellement les déplacements ; et exposition d'un deuxième substrat en utilisant un appareil lithographique pour former une couche à motifs comprenant les premières caractéristiques. La correction est appliquée pendant l'exposition du deuxième substrat.