Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales

1. (WO2018197143) PROCÉDÉ ET APPAREIL D'OPTIMISATION DE PROCESSUS LITHOGRAPHIQUE

Pub. No.:    WO/2018/197143    International Application No.:    PCT/EP2018/057926
Publication Date: Fri Nov 02 00:59:59 CET 2018 International Filing Date: Thu Mar 29 01:59:59 CEST 2018
IPC: G03F 7/20
G05B 19/418
Applicants: ASML NETHERLANDS B.V.
Inventors: HAUPTMANN, Marc
MOS, Everhardus, Cornelis
KOU, Weitian
YPMA, Alexander
KUPERS, Michiel
YU, Hyun-Woo
HAN, Min-Sub
Title: PROCÉDÉ ET APPAREIL D'OPTIMISATION DE PROCESSUS LITHOGRAPHIQUE
Abstract:
La présente invention concerne un procédé lithographique qui est réalisé sur un ensemble de substrats semi-conducteurs se composant d'une pluralité de substrats. Dans le cadre du processus, l'ensemble de substrats est divisé en un certain nombre de sous-ensembles. La division peut être basée sur un ensemble de caractéristiques associées à une première couche sur les substrats. Une empreinte d'un paramètre de performance est ensuite déterminée pour au moins un substrat parmi l'ensemble de substrats. Dans certaines circonstances, l'empreinte est déterminée pour un substrat de chaque sous-ensemble de substrats. L'empreinte est associée à au moins la première couche. Une correction du paramètre de performance associé à une application d'une couche ultérieure est ensuite dérivée, la dérivation étant basée sur l'empreinte déterminée et la division de l'ensemble de substrats.