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1. (WO2018196838) DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE TRANCHE DE SILICIUM ET PROCÉDÉ

Pub. No.:    WO/2018/196838    International Application No.:    PCT/CN2018/084774
Publication Date: Fri Nov 02 00:59:59 CET 2018 International Filing Date: Sat Apr 28 01:59:59 CEST 2018
IPC: H01L 21/67
G03F 7/20
G03F 9/00
Applicants: SHANGHAI MICRO ELECTRONICS EQUIPMENT(GROUP) CO., LTD.
上海微电子装备(集团)股份有限公司
Inventors: WANG, Gang
王刚
SHI, Yichao
施益超
JIANG, Jie
姜杰
HUANG, Dongliang
黄栋梁
SONG, Haijun
宋海军
Title: DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE TRANCHE DE SILICIUM ET PROCÉDÉ
Abstract:
L'invention concerne un dispositif de traitement de tranche de silicium; un ensemble optique pré-aligné (3) et un ensemble d'exposition de bord (5) sont disposés sur un module de mouvement bidirectionnel synchrone (4), réduisant l'espace occupé du dispositif et économisant le coût d'installation; et en outre, un module de mouvement bidirectionnel synchrone, une unité de rotation (7) et une unité de compensation de position (8) sur une plaque inférieure (1) sont commandés au moyen d'un ensemble de commande (2), de façon à réduire la complexité de fonctionnement; et en outre, le module de mouvement bidirectionnel synchrone est commandé pour amener l'ensemble optique pré-aligné et l'ensemble d'exposition de bord à se déplacer simultanément, de sorte que les opérations de pré-alignement et d'exposition de bord peuvent être réalisées sur des tranches de silicium (9) de tailles différentes, ce qui permet d'économiser le temps de commutation et d'augmenter l'efficacité de fonctionnement. L'invention concerne en outre un procédé de traitement d'une tranche de silicium à l'aide d'un dispositif de traitement de tranche de silicium.