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1. (WO2018196113) DISPOSITIF DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR

Pub. No.:    WO/2018/196113    International Application No.:    PCT/CN2017/087788
Publication Date: Fri Nov 02 00:59:59 CET 2018 International Filing Date: Sat Jun 10 01:59:59 CEST 2017
IPC: C23C 14/24
C23C 14/54
Applicants: WUHAN CHINA STAR OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD
武汉华星光电技术有限公司
Inventors: MU, Junying
沐俊应
Title: DISPOSITIF DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR
Abstract:
L'invention concerne un dispositif de dépôt en phase vapeur, comprenant une partie d'évaporation (10), un tuyau de transmission (20) et une partie de dépôt en phase vapeur (30), la partie d'évaporation (10) étant utilisée pour chauffer et évaporer un matériau de dépôt en phase vapeur et former un gaz d'évaporation dans une cavité d'évaporation (11) de celle-ci; le tuyau de transmission (20) est utilisé pour transmettre le gaz d'évaporation formé dans la cavité d'évaporation (11) à une cavité de dépôt en phase vapeur (31) de la partie de dépôt en phase vapeur (30); la partie de dépôt en phase vapeur (30) est utilisée pour déposer le gaz d'évaporation reçu dans la cavité de dépôt en phase vapeur (31) de celle-ci sur un substrat; le tuyau de transmission (20) comprend un premier tuyau (21), un second tuyau (22) et un troisième tuyau (23); une extrémité du premier tuyau (21) est en communication avec la cavité d'évaporation (11) de la partie d'évaporation (10), et un premier ensemble de commande de température (60) est disposé sur le premier tuyau (21) pour maintenir la température dans le premier tuyau (21) constante; une extrémité du second tuyau (22) est en communication avec la cavité de dépôt en phase vapeur (31) de la partie de dépôt en phase vapeur (30), et un second ensemble de commande de température (70) est disposé sur le second tuyau (22) pour maintenir la température dans le second tuyau (22) constante; le second tuyau (23) est utilisé pour faire communiquer l'autre extrémité du premier tuyau (21) avec l'autre extrémité du second tuyau (22); et un ensemble de commande de pression de vapeur (50) est disposé sur le troisième tuyau (23), et l'ensemble de commande de pression de vapeur (50) est utilisé pour commander la réduction de la pression de vapeur d'un gaz d'évaporation dans le troisième tuyau (23) lors de la commutation de dépôt en phase vapeur à inactif et commander l'augmentation de la pression de vapeur du gaz d'évaporation dans le troisième tuyau (23) lors de la commutation d'inactif à dépôt en phase vapeur.