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1. (WO2018196071) DISPOSITIF ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM PAR PULVÉRISATION PHYSIQUE

Pub. No.:    WO/2018/196071    International Application No.:    PCT/CN2017/085839
Publication Date: Fri Nov 02 00:59:59 CET 2018 International Filing Date: Fri May 26 01:59:59 CEST 2017
IPC: C23C 14/34
Applicants: WUHAN CHINA STAR OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD.
武汉华星光电技术有限公司
Inventors: LIU, Siyang
刘思洋
Title: DISPOSITIF ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM PAR PULVÉRISATION PHYSIQUE
Abstract:
L'invention concerne un dispositif de formation de film par pulvérisation physique, ledit dispositif comprenant une cavité sous vide (1) ; une table à substrat (2) agencée dans la cavité sous vide (1), où un substrat (21) sur lequel un film doit être formé est posé ; un matériau cible (3) placé dans la cavité sous vide (1) à l'opposé du substrat (21) ; au moins un dispositif de mesure de résistance de feuille (4) relié au matériau cible (3) pour mesurer la valeur de résistance réelle du matériau cible en temps réel ; une source d'excitation utilisée pour bombarder le matériau cible (3) et le convertir en atomes ; et un système de commande (6) relié au dispositif de mesure de résistance de feuille (4). Le dispositif de formation de film par pulvérisation physique selon l'invention a une structure simple, peut surveiller la consommation du matériau cible (3) en temps réel, empêcher efficacement les dommages occasionnés à une plaque arrière (31) et une anomalie de produit provoquée par la rupture du matériau cible (3), pour accroître ainsi le rendement du produit, améliorer également l'efficacité d'utilisation du matériau cible (3), et éviter le gaspillage de matériau provoqué par l'utilisation incomplète du matériau cible (3).