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1. (WO2018184783) PROCÉDÉ ET APPAREIL LITHOGRAPHIQUES
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N° de publication : WO/2018/184783 N° de la demande internationale : PCT/EP2018/055446
Date de publication : 11.10.2018 Date de dépôt international : 06.03.2018
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20
Exposition; Appareillages à cet effet
Déposants : ASML NETHERLANDS B.V.[NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
Inventeurs : KANT, Nick; NL
VAN HERPEN, Robertus, Martinus, Alphonsus; NL
BEKS, Mark, Louwrens; NL
SWAENEN, Lense, Hendrik-Jan, Maria; NL
VANROOSE, Nico; NL
DOWNES, James, Robert; NL
Mandataire : PJANOVIC, Ilija; NL
Données relatives à la priorité :
17165195.306.04.2017EP
Titre (EN) LITHOGRAPHIC METHOD AND APPARATUS
(FR) PROCÉDÉ ET APPAREIL LITHOGRAPHIQUES
Abrégé :
(EN) A method of reducing an aberration arising during operation of a lithographic apparatus, the method comprising measuring the aberration to obtain an aberration signal, the aberration signal comprising a first component and a second component, wherein the first component of the aberration signal comprises a first frequency band and the second component of the aberration signal comprises a second frequency band, wherein the first frequency band comprises frequencies that are higher than frequencies comprised in the second frequency band, calculating a correction, wherein a first part of the correction is calculated based on the first component of the aberration signal, and applying the correction to the lithographic apparatus.
(FR) La présente invention concerne un procédé de réduction d'une aberration survenant pendant le fonctionnement d'un appareil lithographique, le procédé comprenant la mesure de l'aberration pour obtenir un signal d'aberration, le signal d'aberration comprenant une première composante et une deuxième composante, la première composante du signal d'aberration comprenant une première bande de fréquence et la deuxième composante du signal d'aberration comprenant une deuxième bande de fréquence, la première bande de fréquence comprenant des fréquences qui sont supérieures aux fréquences comprises dans la deuxième bande de fréquence, le calcul d'une correction, une première partie de la correction étant calculée sur la base de la première composante du signal d'aberration, et l'application de la correction à l'appareil lithographique.
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)