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1. (WO2018184720) OBJECTIF DE PROJECTION, INSTALLATION D'EXPOSITION PAR PROJECTION ET PROCÉDÉ D'EXPOSITION PAR PROJECTION
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N° de publication : WO/2018/184720 N° de la demande internationale : PCT/EP2018/000145
Date de publication : 11.10.2018 Date de dépôt international : 29.03.2018
CIB :
G03F 7/20 (2006.01) ,G02B 27/00 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20
Exposition; Appareillages à cet effet
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
B
ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
27
Autres systèmes optiques; Autres appareils optiques
Déposants : CARL ZEISS SMT GMBH[DE/DE]; Rudolf-Eber-Str. 2 73447 Oberkochen, DE
Inventeurs : EPPLE, Alexander; DE
SHAFER, David; US
Mandataire : PATENTANWÄLTE RUFF, WILHELM, BEIER, DAUSTER & PARTNER MBB; Kronenstraße 30 70174 Stuttgart, DE
Données relatives à la priorité :
10 2017 207 582.105.05.2017DE
62/480,62503.04.2017US
Titre (EN) PROJECTION LENS, PROJECTION EXPOSURE INSTALLATION AND PROJECTION EXPOSURE METHOD
(FR) OBJECTIF DE PROJECTION, INSTALLATION D'EXPOSITION PAR PROJECTION ET PROCÉDÉ D'EXPOSITION PAR PROJECTION
(DE) PROJEKTIONSOBJEKTIV, PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE UND PROJEKTIONSBELICHTUNGSVERFAHREN
Abrégé :
(EN) The invention relates to a refractive projection lens (PO) for reproducing a pattern, arranged in an object plane (OS) of the projection lens, in an image plane (IS) of the projection lens using an electromagnetic radiation of a mercury vapor lamp (LS), said projection lens having a plurality of lenses which are mounted along an optical axis (AX) between the object plane (OS) and the image plane (IS) and which are designed in such a way that a pattern (PAT) mounted in the object plane can be reproduced in the image plane in a reducing image scale using the lenses. The lenses comprise first lenses made from a first material with a relatively low Abbe number and second lenses made from a second material with an Abbe number which is high compared to the first material. The projection lens only comprises the following lens groups: a first lens group (LG1) with positive optical power, following the object plane (OS); a second lens group (LG2) with negative optical power, following the first lens group (LG1), for generating a size about an area minimal edge beam height between the object plane and the image plane; a third lens group (LG3) having a positive optical power, following the second lens group (LG2), between the second lens groups and a diaphragm position (BP) suitable for mounting an aperture stop (AS); and a fourth lens group (LG4) with positive optical power between the diaphragm position (BP) and the image plane. The first and the second lenses are combined in such a way that aberrations of the image are corrected at the same time for wavelength ranges of at least two emission lines of the mercury vapor lamp.
(FR) La présente invention concerne un objectif de projection de réfraction (PO) destiné à reproduire un motif, disposé dans un plan objet (OS) de l'objectif de projection, dans un plan image (IS) de l'objectif de projection au moyen d'un rayonnement électromagnétique d'une lampe à vapeur de mercure (LS), ledit objectif de projection de réfraction comportant une pluralité de lentilles, qui sont disposées le long d'un axe optique (AX) entre le plan objet (OS) et le plan image (IS) et qui sont conçues de telle sorte qu'un motif (PAT), disposé dans le plan objet peut être reproduit dans le plan image à une échelle de l'image diminuant au moyen des lentilles. Lesdites lentilles comportent des premières lentilles d'un premier matériau présentant un nombre d'Abbe relativement faible et des deuxièmes lentilles d'un deuxième matériau présentant un nombre d'Abbe supérieur par rapport au premier matériau. L'objectif de projection comporte uniquement les groupes de lentilles suivants: un premier groupe de lentilles (LG1) à puissance optique positive, suivant le plan objet (OS); un deuxième groupe de lentilles (LG2) à puissance optique négative, suivant le premier groupe de lentilles (LG1), destiné à créer une taille autour d'une plage de hauteurs du rayon marginal minimales, entre le plan objet et le plan image; un troisième groupe de lentilles (LG3) à puissance optique positive, suivant le deuxième groupe de lentilles (LG2), entre le deuxième groupe de lentilles et une position de diaphragme (BP) appropriée au montage d'un diaphragme d'ouverture (AS); et un quatrième groupe de lentilles (LG4) à puissance optique positive, entre la position de diaphragme (BP) et le plan image. Les premières et deuxièmes lentilles sont combinées de telle sorte que les aberrations de la reproduction sont corrigées simultanément pour des plages de longueur d'onde d'au moins deux lignes d'émission de la lampe à vapeur de mercure.
(DE) Ein Refraktives Projektionsobjektiv (PO) zur Abbildung eines in einer Objektebene (OS) des Projektionsobjektivs angeordneten Musters in eine Bildebene (IS) des Projektionsobjektivs mittels elektromagnetischer Strahlung einer Quecksilberdampflampe (LS) hat eine Vielzahl von Linsen, die entlang einer optischen Achse (AX) zwischen der Objektebene (OS) und der Bildebene (IS) angeordnet und derart ausgebildet sind, dass ein in der Objektebene angeordnetes Muster (PAT) mittels der Linsen in einem verkleinernden Abbildungsmaßstab in die Bildebene abbildbar ist. Die Linsen weisen erste Linsen aus einem ersten Material mit relativ niedriger Abbe-Zahl und zweite Linsen aus einem zweiten Material mit relativ zu dem ersten Material höherer Abbe-Zahl auf. Das Projektionsobjektiv weist ausschließlich die folgenden Linsengruppen auf: eine der Objektebene (OS) folgende erste Linsengruppe (LG1) mit positiver Brechkraft; eine der ersten Linsengruppe (LG1) folgende zweite Linsengruppe (LG2) mit negativer Brechkraft zur Erzeugung einer Taille um einen Bereich minimaler Randstrahlhöhen zwischen der Objektebene und der Bildebene; eine der zweiten Linsengruppe (LG2) folgende dritte Linsengruppe (LG3) mit positiver Brechkraft zwischen der zweiten Linsengruppe und einer zur Anbringung einer Aperturblende (AS) geeigneten Blendenposition (BP); und einer vierten Linsengruppe (LG4) mit positiver Brechkraft zwischen der Blendenposition (BP) und der Bildebene. Die ersten und zweiten Linsen sind derart kombiniert, dass Aberrationen der Abbildung gleichzeitig für Wellenlängenbereiche von mindestens zwei Emissionslinien der Quecksilberdampflampe korrigiert sind.
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Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)