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1. (WO2018182167) STRUCTURE D'AIMANT, UNITÉ D'AIMANT ET DISPOSITIF DE PULVÉRISATION AU MAGNÉTRON LA COMPRENANT
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N° de publication : WO/2018/182167 N° de la demande internationale : PCT/KR2018/001672
Date de publication : 04.10.2018 Date de dépôt international : 08.02.2018
CIB :
H01J 37/34 (2006.01) ,C23C 14/34 (2006.01) ,H01F 7/122 (2006.01) ,H01F 7/02 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37
Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
32
Tubes à décharge en atmosphère gazeuse
34
fonctionnant par pulvérisation cathodique
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
23
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
C
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
14
Revêtement par évaporation sous vide, pulvérisation cathodique ou implantation d'ions du matériau composant le revêtement
22
caractérisé par le procédé de revêtement
34
Pulvérisation cathodique
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
F
AIMANTS; INDUCTANCES; TRANSFORMATEURS; EMPLOI DE MATÉRIAUX SPÉCIFIÉS POUR LEURS PROPRIÉTÉS MAGNÉTIQUES
7
Aimants
06
Electro-aimants; Actionneurs comportant des électro-aimants
08
avec armatures
121
Guidage ou positionnement d'armatures, p.ex. maintien des armatures dans leur position extrême
122
au moyen d'un aimant permanent
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
F
AIMANTS; INDUCTANCES; TRANSFORMATEURS; EMPLOI DE MATÉRIAUX SPÉCIFIÉS POUR LEURS PROPRIÉTÉS MAGNÉTIQUES
7
Aimants
02
Aimants permanents
Déposants :
한국알박(주) ULVAC KOREA CO., LTD. [KR/KR]; 경기도 평택시 청북읍 한산길 5 5, Hansan-gil, Cheongbuk-eup, Pyeongtaek-Si Gyeonggi-do 17792, KR
Inventeurs :
김정건 KIM, Jung Gun; KR
소병호 SO, Byung Ho; KR
김선영 KIM, Sun Young; KR
우창원 WOO, Chang Won; KR
조성기 JO, Sung Ki; KR
Mandataire :
특허법인 무한 MUHANN PATENT & LAW FIRM; 서울시 강남구 언주로 560, 8층 (역삼동, 진영빌딩) 8F, Jinyoung Bldg., 560, Eonju-ro, Gangnam-gu, Seoul 06144, KR
Données relatives à la priorité :
10-2017-004223831.03.2017KR
Titre (EN) MAGNET STRUCTURE, MAGNET UNIT AND MAGNETRON SPUTTERING DEVICE COMPRISING SAME
(FR) STRUCTURE D'AIMANT, UNITÉ D'AIMANT ET DISPOSITIF DE PULVÉRISATION AU MAGNÉTRON LA COMPRENANT
(KO) 자석 구조체, 자석 유닛 및 이를 포함하는 마그네트론 스퍼터링 장치
Abrégé :
(EN) The present invention relates to a magnet and the like which can be used for a magnetron sputtering device. A magnet structure for a magnetron sputtering device of the present invention comprises: a permanent magnet; and a wire surrounding the permanent magnet.
(FR) La présente invention concerne un aimant et similaire qui peut être utilisé pour un dispositif de pulvérisation au magnétron. Une structure d'aimant pour un dispositif de pulvérisation au magnétron de la présente invention comprend : un aimant permanent; et un fil entourant l'aimant permanent.
(KO) 본 발명은 본 발명은 마그네트론 스퍼터링 장치에 이용할 수 있는 자석 등에 관한 것으로, 본 발명의 마그네트론 스퍼터링 장치의 자석 구조체는, 영구 자석; 및 상기 영구 자석을 감싸도록 구비된 와이어;를 포함한다.
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)