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1. (WO2018181989) COMPOSITION POUR LA FORMATION D'UN FILM DE SOUS-COUCHE DE RÉSERVE CONTENANT DU SILICIUM AYANT UNE STRUCTURE DE CARBONYLE

Pub. No.:    WO/2018/181989    International Application No.:    PCT/JP2018/013879
Publication Date: Fri Oct 05 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Sat Mar 31 01:59:59 CEST 2018
IPC: G03F 7/11
C08G 77/14
C08G 77/22
G03F 7/20
H01L 21/027
Applicants: NISSAN CHEMICAL CORPORATION
日産化学株式会社
Inventors: SHIBAYAMA, Wataru
柴山 亘
TAKEDA, Satoshi
武田 諭
NAKAJIMA, Makoto
中島 誠
Title: COMPOSITION POUR LA FORMATION D'UN FILM DE SOUS-COUCHE DE RÉSERVE CONTENANT DU SILICIUM AYANT UNE STRUCTURE DE CARBONYLE
Abstract:
La présente invention aborde le problème de la réalisation d'une composition de formation d'un film de sous-couche de réserve qui permet le retrait d'un résidu de masque après la lithographie sans gravure uniquement au moyen d'un liquide chimique. La solution selon l'invention porte sur une composition de formation d'un film de sous-couche de réserve contenant du silicium, qui est caractérisée en ce que : la composition contient un polysiloxane qui contient une structure unitaire contenant un groupe fonctionnel contenant un groupe carbonyle ; et le film de sous-couche de réserve contenant du silicium est utilisé en tant que couche de masque dans une étape dans laquelle un motif est transféré à une sous-couche par un procédé de lithographie et la couche de masque est ensuite retirée au moyen d'un liquide chimique qui contient du peroxyde d'hydrogène. Dans la composition de formation d'un film de sous-couche de réserve contenant du silicium selon l'invention, la structure unitaire contenant un groupe fonctionnel contenant un groupe carbonyle contient un groupe anhydride d'acide cyclique, un groupe diester cyclique ou un groupe diester. Le polysiloxane contient en outre une structure unitaire contenant un groupe organique contenant un groupe amide ; et le groupe amide est un groupe sulfonamide ou un groupe isocyanurate de diallyle.