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1. (WO2018181969) MASQUE DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR, MASQUE DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR AVEC CADRE, CORPS PRÉCURSEUR DE MASQUE DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'ÉLÉMENT À SEMI-CONDUCTEUR ORGANIQUE

Pub. No.:    WO/2018/181969    International Application No.:    PCT/JP2018/013798
Publication Date: Fri Oct 05 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Sat Mar 31 01:59:59 CEST 2018
IPC: C23C 14/04
H01L 51/50
H05B 33/10
Applicants: DAI NIPPON PRINTING CO., LTD.
大日本印刷株式会社
Inventors: SONE Yasuko
曽根 康子
KAWASAKI Hiroshi
川崎 博司
HIROBE Yoshinori
廣部 吉紀
OBATA Katsunari
小幡 勝也
NARITA Asako
成田 亜沙子
ISHIRO Hitoshi
居城 均
HATSUTA Chiaki
初田 千秋
Title: MASQUE DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR, MASQUE DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR AVEC CADRE, CORPS PRÉCURSEUR DE MASQUE DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'ÉLÉMENT À SEMI-CONDUCTEUR ORGANIQUE
Abstract:
La présente invention concerne un masque de dépôt en phase vapeur créé par stratification d'un masque métallique ayant des ouvertures de masque métallique sur un masque de résine ayant des ouvertures de masque de résine qui correspondent à un motif formé au moyen d'un dépôt en phase vapeur sur des positions chevauchant les positions des ouvertures de masque métallique, la surface du masque de résine exposée dans les ouvertures de masque métallique ayant une hauteur moyenne arithmétique (Sa) de 0,8 µm ou moins.