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1. (WO2018181713) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D’UNE DISPERSION LIQUIDE DE PARTICULES DE SILICE
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N° de publication : WO/2018/181713 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/013240
Date de publication : 04.10.2018 Date de dépôt international : 29.03.2018
CIB :
C01B 33/18 (2006.01) ,C09K 3/14 (2006.01) ,B24B 37/00 (2012.01) ,H01L 21/304 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
01
CHIMIE INORGANIQUE
B
ÉLÉMENTS NON MÉTALLIQUES; LEURS COMPOSÉS
33
Silicium; Ses composés
113
Oxydes de silicium; Leurs hydrates
12
Silice; Ses hydrates, p.ex. acide silicique lépidoïque
18
Préparation de silice finement divisée ni sous forme de sol ni sous forme de gel; Post-traitement de cette silice
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
09
COLORANTS; PEINTURES; PRODUITS À POLIR; RÉSINES NATURELLES; ADHÉSIFS; COMPOSITIONS NON PRÉVUES AILLEURS; UTILISATIONS DE SUBSTANCES, NON PRÉVUES AILLEURS
K
SUBSTANCES POUR DES APPLICATIONS NON PRÉVUES AILLEURS; APPLICATIONS DE SUBSTANCES NON PRÉVUES AILLEURS
3
Substances non couvertes ailleurs
14
Substances antidérapantes; Abrasifs
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
24
MEULAGE; POLISSAGE
B
MACHINES, DISPOSITIFS OU PROCÉDÉS POUR MEULER OU POUR POLIR; DRESSAGE OU REMISE EN ÉTAT DES SURFACES ABRASIVES; ALIMENTATION DES MACHINES EN MATÉRIAUX DE MEULAGE, DE POLISSAGE OU DE RODAGE
37
Machines ou dispositifs de rodage; Accessoires
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
02
Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
04
les dispositifs présentant au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface, p.ex. une jonction PN, une région d'appauvrissement, ou une région de concentration de porteurs de charges
18
les dispositifs ayant des corps semi-conducteurs comprenant des éléments du quatrième groupe de la Classification Périodique, ou des composés AIIIBV, avec ou sans impuretés, p.ex. des matériaux de dopage
30
Traitement des corps semi-conducteurs en utilisant des procédés ou des appareils non couverts par les groupes H01L21/20-H01L21/26162
302
pour changer leurs caractéristiques physiques de surface ou leur forme, p.ex. gravure, polissage, découpage
304
Traitement mécanique, p.ex. meulage, polissage, coupe
Déposants :
日揮触媒化成株式会社 JGC CATALYSTS AND CHEMICALS LTD. [JP/JP]; 神奈川県川崎市幸区堀川町580番地 580 Horikawa-cho, Saiwai-ku, Kawasaki City, Kanagawa 2120013, JP
Inventeurs :
江上 美紀 EGAMI Miki; JP
熊澤 光章 KUMAZAWA Mitsuaki; JP
荒金 宏忠 ARAKANE Hirotada; JP
村口 良 MURAGUCHI Ryo; JP
平井 俊晴 HIRAI Toshiharu; JP
Mandataire :
▲高▼津 一也 TAKATSU Kazuya; JP
Données relatives à la priorité :
2017-07150231.03.2017JP
Titre (EN) PRODUCTION METHOD FOR SILICA PARTICLE LIQUID DISPERSION
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D’UNE DISPERSION LIQUIDE DE PARTICULES DE SILICE
(JA) シリカ粒子分散液の製造方法
Abrégé :
(EN) [Problem] To efficiently produce silica particles by inhibiting production of unreacted materials. [Solution] This silica particle liquid dispersion production method comprises simultaneously adding, to liquid I containing silica seed particles, liquid A containing a silane alkoxide and liquid B containing an alkali catalyst and water, to grow the silica seed particles and thereby produce silica particles, wherein the change rate of the molar ratio of the alkali catalyst to the silica component, with respect to the initial value thereof, in the reaction system during a period from the start to end of the addition, is 0.90-1.10, and the change rate of the molar ratio of the water to the silica component, with respect to the initial value thereof, in the reaction system during a period from the start to end of the addition, is 0.90-1.10.
(FR) Le problème décrit par la présente invention est de produire d’une manière efficace des particules de silice en inhibant la production de matériaux n’ayant pas réagi. La solution selon l’invention porte sur un procédé de production d’une dispersion liquide de particules de silice, consistant à ajouter simultanément, au liquide (I) contenant des particules semences de silice, un liquide (A) contenant un alcoxyde de silane et un liquide (B) contenant un catalyseur alcalin et de l’eau, pour faire croître les particules semences de silice et produire ainsi des particules de silice, où le niveau de changement du rapport molaire du catalyseur alcalin au constituant de silice, par rapport à sa valeur initiale, dans le système réactionnel sur une durée depuis le début jusqu’à la fin de l’addition, est de 0,90 à 1,10, et le niveau de changement du rapport molaire de l’eau au constituant de silice, par rapport à sa valeur initiale, dans le système réactionnel sur une durée depuis le début jusqu’à la fin de l’addition, est de 0,90 à 1,10.
(JA) 【課題】未反応物の生成を抑制して、効率よくシリカ粒子を製造すること。 【解決手段】シリカ種粒子を含有する液Iに対して、シランアルコキシドを含有する液Aと、アルカリ触媒及び水を含有する液Bとを同時に添加することにより、シリカ種粒子を成長させてシリカ粒子を製造するシリカ粒子分散液の製造方法であって、添加開始から終了までの期間の反応系におけるシリカ成分に対するアルカリ触媒のモル比の初期値に対する変化率が、0.90~1.10であり、添加開始から終了までの期間の反応系におけるシリカ成分に対する水のモル比の初期値に対する変化率が、0.90~1.10であるシリカ粒子分散液の製造方法である。
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Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
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Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : Japonais (JA)
Langue de dépôt : Japonais (JA)