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1. (WO2018180975) FILM INORGANIQUE ET FILM DE BARRIÈRE CONTRE LES GAZ
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N° de publication : WO/2018/180975 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/011677
Date de publication : 04.10.2018 Date de dépôt international : 23.03.2018
CIB :
C23C 14/08 (2006.01) ,B32B 9/00 (2006.01) ,B32B 27/00 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
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REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
C
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
14
Revêtement par évaporation sous vide, pulvérisation cathodique ou implantation d'ions du matériau composant le revêtement
06
caractérisé par le matériau de revêtement
08
Oxydes
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
32
PRODUITS STRATIFIÉS
B
PRODUITS STRATIFIÉS, c. à d. FAITS DE PLUSIEURS COUCHES DE FORME PLANE OU NON PLANE, p.ex. CELLULAIRE OU EN NID D'ABEILLES
9
Produits stratifiés composés essentiellement d'une substance particulière non couverte par les groupes B32B11/-B32B29/155
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
32
PRODUITS STRATIFIÉS
B
PRODUITS STRATIFIÉS, c. à d. FAITS DE PLUSIEURS COUCHES DE FORME PLANE OU NON PLANE, p.ex. CELLULAIRE OU EN NID D'ABEILLES
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Produits stratifiés composés essentiellement de résine synthétique
Déposants :
積水化学工業株式会社 SEKISUI CHEMICAL CO., LTD. [JP/JP]; 大阪府大阪市北区西天満2丁目4番4号 4-4, Nishitemma 2-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300047, JP
Inventeurs :
浅野 元彦 ASANO, Motohiko; JP
Mandataire :
特許業務法人 安富国際特許事務所 YASUTOMI & ASSOCIATES; 大阪府大阪市淀川区宮原3丁目5番36号 5-36, Miyahara 3-chome, Yodogawa-ku, Osaka-shi, Osaka 5320003, JP
Données relatives à la priorité :
2017-07276931.03.2017JP
Titre (EN) INORGANIC FILM AND GAS BARRIER FILM
(FR) FILM INORGANIQUE ET FILM DE BARRIÈRE CONTRE LES GAZ
(JA) 無機膜及びガスバリアフィルム
Abrégé :
(EN) One objective of the present invention is to provide an inorganic film that exhibits superior gas barrier properties and suppresses light transmittance from being degraded even when laminated with a resin material. Further, another objective of the present invention is to provide a gas barrier film having said inorganic film. The inorganic film of the present invention includes a double oxide including silicon (Si), carbon (C), zinc (Zn) and tin (Sn), wherein the carbon (C) concentration continuously increases in the film thickness direction from a central part of the film toward the surface of the film.
(FR) La présente invention a pour objectif de fournir un film inorganique qui présente des propriétés supérieures de barrière contre les gaz et évite que la transmittance de lumière soit dégradée, même lorsqu’il est stratifié avec un matériau de résine. En outre, un autre objectif de la présente invention est de fournir un film de barrière contre les gaz comportant ledit film inorganique. Le film inorganique de la présente invention comprend un double oxyde comprenant du silicium (Si), du carbone (C), du zinc (Zn) et de l’étain (Sn), la concentration en carbone (C) augmentant de façon continue dans la direction de l’épaisseur du film depuis une partie centrale du film vers la surface du film.
(JA) 本発明は、ガスバリア性に優れ、樹脂材料と積層された際にも光線透過率を低下させにくい無機膜を提供することを目的とする。また、本発明は、該無機膜を有するガスバリアフィルムを提供することを目的とする。本発明は、ケイ素(Si)、炭素(C)、亜鉛(Zn)及びスズ(Sn)を含む複酸化物を含有し、膜中央部から膜表面に向けて膜厚方向に炭素(C)濃度が連続的に増加する無機膜である。
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Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)