Certains contenus de cette application ne sont pas disponibles pour le moment.
Si cette situation persiste, veuillez nous contacter àObservations et contact
1. (WO2018180870) STRATIFIÉ, SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION ET JOINT DE VANNE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication : WO/2018/180870 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/011366
Date de publication : 04.10.2018 Date de dépôt international : 22.03.2018
CIB :
C25D 11/16 (2006.01) ,C25D 11/04 (2006.01) ,C25D 11/18 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
25
PROCÉDÉS ÉLECTROLYTIQUES OU ÉLECTROPHORÉTIQUES; APPAREILLAGES À CET EFFET
D
PROCÉDÉS POUR LA PRODUCTION ÉLECTROLYTIQUE OU ÉLECTROPHORÉTIQUE DE REVÊTEMENTS; GALVANOPLASTIE; JONCTION DE PIÈCES PAR ÉLECTROLYSE; APPAREILLAGES À CET EFFET
11
Revêtements électrolytiques par réaction de surface, c. à d. par formation de couches de conversion
02
Anodisation
04
de l'aluminium ou de ses alliages
16
Prétraitement
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
25
PROCÉDÉS ÉLECTROLYTIQUES OU ÉLECTROPHORÉTIQUES; APPAREILLAGES À CET EFFET
D
PROCÉDÉS POUR LA PRODUCTION ÉLECTROLYTIQUE OU ÉLECTROPHORÉTIQUE DE REVÊTEMENTS; GALVANOPLASTIE; JONCTION DE PIÈCES PAR ÉLECTROLYSE; APPAREILLAGES À CET EFFET
11
Revêtements électrolytiques par réaction de surface, c. à d. par formation de couches de conversion
02
Anodisation
04
de l'aluminium ou de ses alliages
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
25
PROCÉDÉS ÉLECTROLYTIQUES OU ÉLECTROPHORÉTIQUES; APPAREILLAGES À CET EFFET
D
PROCÉDÉS POUR LA PRODUCTION ÉLECTROLYTIQUE OU ÉLECTROPHORÉTIQUE DE REVÊTEMENTS; GALVANOPLASTIE; JONCTION DE PIÈCES PAR ÉLECTROLYSE; APPAREILLAGES À CET EFFET
11
Revêtements électrolytiques par réaction de surface, c. à d. par formation de couches de conversion
02
Anodisation
04
de l'aluminium ou de ses alliages
18
Post-traitement, p.ex. bouchage des pores
Déposants :
株式会社バルカー VALQUA, LTD. [JP/JP]; 東京都品川区大崎二丁目1番1号 1-1, Osaki 2-chome, Shinagawa-ku, Tokyo 1416024, JP
Inventeurs :
野口 勝通 NOGUCHI, Masayuki; JP
木下 ひろみ KINOSHITA, Hiromi; JP
Mandataire :
特許業務法人深見特許事務所 FUKAMI PATENT OFFICE, P.C.; 大阪府大阪市北区中之島三丁目2番4号 中之島フェスティバルタワー・ウエスト Nakanoshima Festival Tower West, 2-4, Nakanoshima 3-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300005, JP
Données relatives à la priorité :
2017-06665430.03.2017JP
Titre (EN) LAMINATE, METHOD FOR PRODUCING SAME, AND GATE SEAL
(FR) STRATIFIÉ, SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION ET JOINT DE VANNE
(JA) 積層体及びその製造方法、並びにゲートシール
Abrégé :
(EN) The present invention provides a laminate comprising: a metal substrate having a chemically etched surface and a fluoroelastomer layer laminated so as to be in contact with the chemically etched surface, or laminated so as to be in contact with the surface of a fluororesin layer laminated so as to be in contact with the chemically etched surface. Also provided is a gate valve comprising the laminate.
(FR) La présente invention concerne un stratifié comprenant : un substrat métallique ayant une surface gravée chimiquement et une couche de fluoroélastomère stratifiée de manière à être en contact avec la surface gravée chimiquement, ou stratifié de façon à être en contact avec la surface d'une couche de résine fluorée stratifiée de façon à être en contact avec la surface chimiquement gravée. L'invention concerne également un robinet-vanne comprenant le stratifié.
(JA) ケミカルエッチング表面を有する金属基材と、ケミカルエッチング表面に接して積層されるか、又はケミカルエッチング表面に接して積層されるフッ素樹脂層の表面に接して積層されるフルオロエラストマー層とを含む積層体、及びそれを含むゲートバルブが提供される。
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)