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1. (WO2018180716) PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE COMPOSÉ POLYMÉRISABLE ET SOLUTION DE COMPOSÉ POLYMÉRISABLE
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N° de publication : WO/2018/180716 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/010845
Date de publication : 04.10.2018 Date de dépôt international : 19.03.2018
CIB :
C07D 277/82 (2006.01) ,C07C 69/75 (2006.01) ,C08F 20/38 (2006.01) ,G02B 5/30 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
07
CHIMIE ORGANIQUE
D
COMPOSÉS HÉTÉROCYCLIQUES
277
Composés hétérocycliques contenant des cycles thiazole-1, 3 ou thiazole-1, 3 hydrogénés
60
condensés avec des carbocycles ou avec des systèmes carbocycliques
62
Benzothiazoles
68
avec des hétéro-atomes ou avec des atomes de carbone comportant trois liaisons à des hétéro-atomes, avec au plus une liaison à un halogène, p.ex. radicaux ester ou nitrile, liés directement en position 2
82
Atomes d'azote
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
07
CHIMIE ORGANIQUE
C
COMPOSÉS ACYCLIQUES OU CARBOCYCLIQUES
69
Esters d'acides carboxyliques; Esters de l'acide carbonique ou de l'acide formique halogéné
74
Esters d'acides carboxyliques dont un groupe carboxyle est lié à un atome de carbone d'un cycle autre qu'un cycle aromatique à six chaînons
75
d'acides avec un cycle à six chaînons
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
F
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES OBTENUS PAR DES RÉACTIONS FAISANT INTERVENIR UNIQUEMENT DES LIAISONS NON SATURÉES CARBONE-CARBONE
20
Homopolymères ou copolymères de composés contenant un ou plusieurs radicaux aliphatiques non saturés, chaque radical ne contenant qu'une seule liaison double carbone-carbone et un seul étant terminé par un seul radical carboxyle ou un sel, anhydride, ester, amide, imide ou nitrile
02
Acides monocarboxyliques contenant moins de dix atomes de carbone; Leurs dérivés
10
Esters
38
Esters contenant du soufre
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
B
ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
5
Eléments optiques autres que les lentilles
30
Eléments polarisants
Déposants : ZEON CORPORATION[JP/JP]; 6-2, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku Tokyo 1008246, JP
Inventeurs : OKUYAMA Kumi; JP
SAKAMOTO Kei; JP
MIMA Takanori; JP
Mandataire : SUGIMURA Kenji; JP
Données relatives à la priorité :
2017-06165927.03.2017JP
Titre (EN) POLYMERIZABLE COMPOUND PRODUCTION METHOD AND POLYMERIZABLE COMPOUND SOLUTION
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE COMPOSÉ POLYMÉRISABLE ET SOLUTION DE COMPOSÉ POLYMÉRISABLE
(JA) 重合性化合物の製造方法および溶液
Abrégé :
(EN) The present invention provides a polymerizable compound production method that enables production of, in high yield, a polymerizable compound used for producing an optical film or the like. The polymerizable compound production method according to the present invention comprises a step for reacting a compound represented by formula (I) with a compound represented by formula (II) in an organic solvent in which a base having a pKa of 6.1-9.5 is present, so as to obtain a reaction solution containing a polymerizable compound represented by formula (III).
(FR) La présente invention concerne un procédé de production de composé polymérisable qui permet la production, avec un rendement élevé, d'un composé polymérisable utilisé pour produire un film optique ou similaire. Le procédé de production de composé polymérisable selon la présente invention comprend une étape consistant à faire réagir un composé représenté par la formule (I) avec un composé représenté par la formule (II) dans un solvant organique, dans lequel une base ayant un pKa de 6,1 à 9,5 est présente, de façon à obtenir une solution de réaction contenant un composé polymérisable représenté par la formule (III).
(JA) 光学フィルム等を作製するために用いられる重合性化合物を高収率で製造することができる重合性化合物の製造方法が提供される。本発明の重合性化合物の製造方法は、pKaが6.1以上9.5以下である塩基が存在する有機溶媒中において、下記式(I)で示される化合物と、下記式(II)で示される化合物とを反応させて、下記式(III)で示される重合性化合物を含む反応液を得る工程を含む。
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Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)