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1. (WO2018180561) COMPOSITION D'ÉTHER FLUORÉ ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION ASSOCIÉ
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N° de publication : WO/2018/180561 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/010306
Date de publication : 04.10.2018 Date de dépôt international : 15.03.2018
CIB :
C08G 65/336 (2006.01) ,C08L 71/00 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
G
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES OBTENUS PAR DES RÉACTIONS AUTRES QUE CELLES FAISANT INTERVENIR UNIQUEMENT DES LIAISONS NON SATURÉES CARBONE-CARBONE
65
Composés macromoléculaires obtenus par des réactions créant une liaison éther dans la chaîne principale de la macromolécule
02
à partir d'éthers cycliques par ouverture d'un hétérocycle
32
Polymères modifiés par post-traitement chimique
329
avec des composés organiques
336
contenant du silicium
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
L
COMPOSITIONS CONTENANT DES COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
71
Compositions contenant des polyéthers obtenus par des réactions créant une liaison éther dans la chaîne principale; Compositions contenant des dérivés de tels polymères
Déposants : AGC INC.[JP/JP]; 5-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008405, JP
Inventeurs : TAKAO Kiyotaka; JP
Mandataire : SENMYO Kenji; JP
OGAWA Toshiharu; JP
KIM Jin-Moon; JP
HIKINO Ken; JP
YOKOI Daiichiro; JP
Données relatives à la priorité :
2017-06094927.03.2017JP
Titre (EN) FLUORINATED ETHER COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING SAME
(FR) COMPOSITION D'ÉTHER FLUORÉ ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION ASSOCIÉ
(JA) 含フッ素エーテル組成物およびその製造方法
Abrégé :
(EN) Provided are: a fluorinated ether composition which can be formed into a surface layer having excellent durability without deteriorating the transparency of a base; and a method for producing a fluorinated ether composition. A fluorinated ether composition containing a compound (A) having a poly(oxyperfluoroalkylene) chain and a group represented by formula (I) and a transition metal compound, wherein the ratio of the mass of the transition metal compound to the mass of the compound (A) is 300 to 4,000 ppm in terms of a transition metal content. (I) -SiRnL3-n; wherein L represents a hydroxyl group or a hydrolysable group, R represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group, and n represents an integer of 0 to 2.
(FR) L'invention concerne : une composition d'éther fluoré qui peut être formée en une couche de surface présentant une excellente durabilité sans détériorer la transparence d'une base ; et un procédé de production d'une composition d'éther fluoré. L'invention concerne une composition d'éther fluoré contenant un composé (A) ayant une chaîne poly(oxyperfluoroalkylène) et un groupe représenté par la formule (I) et un composé de métal de transition, le rapport de la masse du composé de métal de transition à la masse du composé (A) étant de 300 à 4 000 ppm en termes de teneur du métal de transition. (I) -SiRnL3-n ; dans laquelle L représente un groupe hydroxy ou un groupe hydrolysable, R représente un atome d'hydrogène ou un groupe hydrocarboné monovalent et n représente un nombre entier de 0 à 2.
(JA) 基材の透明性を損なうことなく、耐久性に優れる表面層を形成できる含フッ素エーテル組成物および含フッ素エーテル組成物の製造方法の提供。 ポリ(オキシペルフルオロアルキレン)鎖および下式(I)で表される基を有する化合物(A)と、遷移金属化合物とを含む含フッ素エーテル組成物であって、前記化合物(A)に対する前記遷移金属化合物の質量割合が遷移金属換算で300~4,000ppmである、含フッ素エーテル組成物。-SiR3-n・・・(I);ただし、Lは水酸基または加水分解性基であり、Rは水素原子または1価の炭化水素基であり、nは0~2の整数である。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)