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1. (WO2018180418) STRATIFIÉ ET DISPOSITIF DE SCIE

Pub. No.:    WO/2018/180418    International Application No.:    PCT/JP2018/009453
Publication Date: Fri Oct 05 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Tue Mar 13 00:59:59 CET 2018
IPC: H03H 9/25
Applicants: SUMITOMO ELECTRIC INDUSTRIES, LTD.
住友電気工業株式会社
Inventors: GESHI Keiichirou
下司 慶一郎
YAMAGUCHI Ryota
山口 遼太
HASEGAWA Masato
長谷川 幹人
Title: STRATIFIÉ ET DISPOSITIF DE SCIE
Abstract:
La présente invention concerne un stratifié pourvu : d'un substrat en céramique qui est configuré à partir d'une céramique polycristalline et qui a une surface principale de support ; et un substrat piézoélectrique qui est composé d'un corps piézoélectrique et qui a une surface principale de liaison qui est liée à la surface principale de support par la force de Van der Waals. Le substrat en céramique comprend une couche amorphe de surface principale de support qui est formée de manière à contenir la surface principale de support. Le substrat piézoélectrique comprend une couche amorphe de surface principale de liaison qui est formée de manière à contenir la surface principale de liaison. L'épaisseur de la couche amorphe de surface principale de support est inférieure à l'épaisseur de la couche amorphe de surface principale de liaison.