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1. (WO2018180182) CIBLE DE PULVÉRISATION CATHODIQUE CYLINDRIQUE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
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N° de publication : WO/2018/180182 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/007865
Date de publication : 04.10.2018 Date de dépôt international : 01.03.2018
CIB :
C23C 14/34 (2006.01) ,C04B 35/01 (2006.01) ,C04B 35/453 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
23
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
C
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
14
Revêtement par évaporation sous vide, pulvérisation cathodique ou implantation d'ions du matériau composant le revêtement
22
caractérisé par le procédé de revêtement
34
Pulvérisation cathodique
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
04
CIMENTS; BÉTON; PIERRE ARTIFICIELLE; CÉRAMIQUES; RÉFRACTAIRES
B
CHAUX; MAGNÉSIE; SCORIES; CIMENTS; LEURS COMPOSITIONS, p.ex. MORTIERS, BÉTON OU MATÉRIAUX DE CONSTRUCTION SIMILAIRES; PIERRE ARTIFICIELLE; CÉRAMIQUES; RÉFRACTAIRES; TRAITEMENT DE LA PIERRE NATURELLE
35
Produits céramiques mis en forme, caractérisés par leur composition; Compositions céramiques; Traitement de poudres de composés inorganiques préalablement à la fabrication de produits céramiques
01
à base d'oxydes
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
04
CIMENTS; BÉTON; PIERRE ARTIFICIELLE; CÉRAMIQUES; RÉFRACTAIRES
B
CHAUX; MAGNÉSIE; SCORIES; CIMENTS; LEURS COMPOSITIONS, p.ex. MORTIERS, BÉTON OU MATÉRIAUX DE CONSTRUCTION SIMILAIRES; PIERRE ARTIFICIELLE; CÉRAMIQUES; RÉFRACTAIRES; TRAITEMENT DE LA PIERRE NATURELLE
35
Produits céramiques mis en forme, caractérisés par leur composition; Compositions céramiques; Traitement de poudres de composés inorganiques préalablement à la fabrication de produits céramiques
01
à base d'oxydes
453
à base d'oxydes de zinc, d'étain ou de bismuth ou de leurs solutions solides avec d'autres oxydes, p.ex. zincates, stannates ou bismuthates
Déposants : JX NIPPON MINING & METALS CORPORATION[JP/JP]; 1-2,Otemachi 1-chome,Chiyoda-ku, Tokyo 1008164, JP
Inventeurs : TSURUTA,Yoshitaka; JP
NEGISHI,Tomoya; JP
Mandataire : AXIS PATENT INTERNATIONAL; Shimbashi i-mark Bldg., 6-2 Shimbashi 2-Chome, Minato-ku, Tokyo 1050004, JP
Données relatives à la priorité :
2017-07216931.03.2017JP
Titre (EN) CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME
(FR) CIBLE DE PULVÉRISATION CATHODIQUE CYLINDRIQUE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) 円筒型スパッタリングターゲット及びその製造方法
Abrégé :
(EN) This cylindrical sputtering target is provided with: a metallic cylindrical base material; and a ceramic cylindrical target material, which is bonded to the outer circumferential side of the cylindrical base material, and which is integrally formed with a length of 750 mm or more in the axis line direction. The coefficient of variation of the bulk resistivity on the outer circumferential surface of the cylindrical target material, said variation being in the axis line direction, is 0.05 or smaller.
(FR) La présente invention concerne une cible de pulvérisation cathodique cylindrique est pourvue de : un matériau de base cylindrique métallique ; et un matériau de cible cylindrique céramique, qui est lié au côté circonférentiel externe du matériau de base cylindrique, et qui est formé de façon intégrée avec une longueur de 750 mm ou plus dans la direction de ligne d’axe. Le coefficient de variation de la résistivité volumique sur la surface circonférentielle externe du matériau de cible cylindrique, ladite variation étant dans la direction de ligne axiale, qui est de 0,05 ou moins.
(JA) 本発明の円筒型スパッタリングターゲットは、金属製の円筒型基材と、前記円筒型基材の外周側に接合されて、750mm以上の軸線方向の長さで一体に形成されたセラミックス製の円筒型ターゲット材とを備え、前記円筒型ターゲット材の外周面におけるバルク抵抗率の軸線方向の変動係数が0.05以下である。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
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Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)