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1. (WO2018180153) COMPOSITION DE POLISSAGE ET PROCÉDÉ DE POLISSAGE

Pub. No.:    WO/2018/180153    International Application No.:    PCT/JP2018/007546
Publication Date: Fri Oct 05 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Thu Mar 01 00:59:59 CET 2018
IPC: H01L 21/304
B24B 37/00
C09G 1/02
C09K 3/14
Applicants: FUJIMI INCORPORATED
株式会社フジミインコーポレーテッド
Inventors: TSUCHIYA, Kohsuke
土屋 公亮
TANIGUCHI, Megumi
谷口 恵
NUMATA, Keisuke
沼田 圭祐
Title: COMPOSITION DE POLISSAGE ET PROCÉDÉ DE POLISSAGE
Abstract:
La présente invention concerne une composition de polissage grâce à laquelle il devient possible de fournir une tranche de silicium qui est réduite en cas de décollement de bord et qui est améliorée en termes de planéité globale lorsque la tranche de silicium est grossièrement polie. La présente invention concerne une composition de polissage qui peut être utilisée pour le polissage rugueux d'une tranche de silicium, ladite composition de polissage comprenant des grains abrasifs, un polymère hydrosoluble, un composé basique et de l'eau, le polymère hydrosoluble comprenant au moins deux types de polymères hydrosolubles qui sont différents l'un de l'autre en termes de capacité de retard de gravure de silicium.