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1. (WO2018180070) COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE AUX RAYONS ACTINIQUES OU SENSIBLE AU RAYONNEMENT, FILM DE RÉSERVE, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE

Pub. No.:    WO/2018/180070    International Application No.:    PCT/JP2018/006632
Publication Date: Fri Oct 05 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Sat Feb 24 00:59:59 CET 2018
IPC: G03F 7/004
G03F 7/038
G03F 7/039
Applicants: FUJIFILM CORPORATION
富士フイルム株式会社
Inventors: SAKITA Kyohei
崎田 享平
FUJITA Mitsuhiro
藤田 光宏
TANAKA Takumi
田中 匠
YAMAMOTO Keishi
山本 恵士
GOTO Akiyoshi
後藤 研由
KATO Keita
加藤 啓太
Title: COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE AUX RAYONS ACTINIQUES OU SENSIBLE AU RAYONNEMENT, FILM DE RÉSERVE, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE
Abstract:
L'invention concerne une composition de résine sensible aux rayons actiniques ou sensible au rayonnement par laquelle un motif ayant une excellente rugosité de largeur de ligne de motif (LWR) et une uniformité de dimension critique (CDU) peut être formé. De plus, l'invention concerne : un film de réserve préparé en utilisant ladite composition de résine sensible aux rayons actiniques ou sensible au rayonnement; un procédé de formation de motif; et un procédé de production d'un dispositif électronique. La composition de résine sensible aux rayons actiniques ou sensible au rayonnement contient : une résine ayant un groupe décomposable par un acide qui augmente en polarité en étant décomposée par l'action d'un acide; un agent de génération d'acide A permettant de générer un premier acide au moyen d'un rayonnement de rayons actiniques ou d'un rayonnement; et un agent de génération d'acide B permettant de générer un second acide au moyen d'un rayonnement de rayons actiniques ou d'un rayonnement, le premier acide et le second acide satisfaisant des conditions prédéterminées.