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1. (WO2018179999) VAPORISATEUR
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N° de publication : WO/2018/179999 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/005866
Date de publication : 04.10.2018 Date de dépôt international : 20.02.2018
CIB :
H01L 21/31 (2006.01) ,C23C 16/448 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
02
Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
04
les dispositifs présentant au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface, p.ex. une jonction PN, une région d'appauvrissement, ou une région de concentration de porteurs de charges
18
les dispositifs ayant des corps semi-conducteurs comprenant des éléments du quatrième groupe de la Classification Périodique, ou des composés AIIIBV, avec ou sans impuretés, p.ex. des matériaux de dopage
30
Traitement des corps semi-conducteurs en utilisant des procédés ou des appareils non couverts par les groupes H01L21/20-H01L21/26162
31
pour former des couches isolantes en surface, p.ex. pour masquer ou en utilisant des techniques photolithographiques; Post-traitement de ces couches; Emploi de matériaux spécifiés pour ces couches
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
23
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
C
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
16
Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c. à d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur (CVD)
44
caractérisé par le procédé de revêtement
448
caractérisé par le procédé utilisé pour produire des courants de gaz réactifs, p.ex. par évaporation ou par sublimation de matériaux précurseurs
Déposants :
日立金属株式会社 HITACHI METALS, LTD. [JP/JP]; 東京都港区港南一丁目2番70号 2-70, Konan 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1088224, JP
Inventeurs :
佐々木 章 SASAKI Akira; JP
吉田 善紀 YOSHIDA Yoshinori; JP
Mandataire :
特許業務法人プロスペック特許事務所 PROSPEC PATENT FIRM; 愛知県名古屋市中村区太閤三丁目1番18号 名古屋KSビル12階 12th Floor, NAGOYA-KS Building, 1-18, Taiko 3-chome, Nakamura-ku, Nagoya-shi, Aichi 4530801, JP
Données relatives à la priorité :
2017-06515429.03.2017JP
Titre (EN) VAPORIZER
(FR) VAPORISATEUR
(JA) 気化器
Abrégé :
(EN) This vaporizer has a configuration in which a first support member fixed to a cabinet is provided, a flow rate measuring means is supported by the first support member, and a heater plate is supported by the first support member between the flow rate measuring means and a detachable surface which is a removable surface of the cabinet. Preferably, one or more heat transfer members transmitting heat from the heater plate to a conduit re further provided. When it is difficult to support a valve for starting and stopping the supply of a gas generated in a tank by the conduit, the valve is preferably fixed to the cabinet by a member with which heat transfer is difficult. Thus, the present invention provides a vaporizer in which even when the width is narrowed or a plurality of gas supply lines are provided, the flow rate measuring means can be easily separated or reinstalled for the purpose of inspection or repair.
(FR) La présente invention concerne un vaporisateur ayant une configuration dans laquelle un premier élément de support fixé à un boîtier est prévu, un moyen de mesure de débit est supporté par le premier élément de support, et une plaque chauffante est supportée par le premier élément de support entre le moyen de mesure de débit et une surface amovible qui est une surface amovible du boîtier. De préférence, un ou plusieurs éléments de transfert de chaleur transmettant de la chaleur de la plaque chauffante à un conduit sont également fournis. Lorsqu'il est difficile de supporter une soupape pour démarrer et arrêter l'alimentation d'un gaz généré dans un réservoir par le conduit, la soupape est de préférence fixée à le boîtier par un élément avec lequel le transfert de chaleur est difficile. Ainsi, la présente invention concerne un vaporisateur dans lequel même lorsque la largeur est rétrécie ou une pluralité de lignes d'alimentation en gaz sont fournies, le moyen de mesure de débit peut être facilement séparé ou réinstallé dans le but d'inspection ou de réparation.
(JA) 気化器は、キャビネットに固定された第1支持部材を有し、流量測定手段が第1支持部材によって支持され、ヒータプレートが第1支持部材によって流量測定手段とキャビネットの取り外し可能な面である脱着面との間によって支持される構成を有する。好ましくは、ヒータプレートから導管に熱を伝える1又は2以上の伝熱部材を更に有する。タンクにおいて発生したガスの供給の開始及び停止を行うバルブを導管によって支持することが困難な場合は、熱を伝達し難い部材によってキャビネットにバルブを固定することが好ましい。これにより、幅を狭くしたり、複数のガス供給ラインを設けたりした場合においても、流量測定手段を点検又は修理の目的で取り外したり、再度取り付けたりする操作を容易に行うことができる気化器を提供する。
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Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)