Certains contenus de cette application ne sont pas disponibles pour le moment.
Si cette situation persiste, veuillez nous contacter àObservations et contact
1. (WO2018179818) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN SOL DE SILICE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau internationalFormuler une observation

N° de publication : WO/2018/179818 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/003393
Date de publication : 04.10.2018 Date de dépôt international : 01.02.2018
CIB :
C01B 33/141 (2006.01) ,C08G 77/02 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
01
CHIMIE INORGANIQUE
B
ÉLÉMENTS NON MÉTALLIQUES; LEURS COMPOSÉS
33
Silicium; Ses composés
113
Oxydes de silicium; Leurs hydrates
12
Silice; Ses hydrates, p.ex. acide silicique lépidoïque
14
Silice colloïdale, p.ex. sous forme de dispersions, gels, sols
141
Préparation d'hydrosols ou de dispersions aqueuses
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
G
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES OBTENUS PAR DES RÉACTIONS AUTRES QUE CELLES FAISANT INTERVENIR UNIQUEMENT DES LIAISONS NON SATURÉES CARBONE-CARBONE
77
Composés macromoléculaires obtenus par des réactions créant dans la chaîne principale de la macromolécule une liaison contenant du silicium, avec ou sans soufre, azote, oxygène ou carbone
02
Polysilicates
Déposants :
株式会社フジミインコーポレーテッド FUJIMI INCORPORATED [JP/JP]; 愛知県清須市西枇杷島町地領二丁目1番地1 1-1, Chiryo 2-chome, Nishibiwajima-cho, Kiyosu-shi, Aichi 4528502, JP
Inventeurs :
芦▲高▼ 圭史 ASHITAKA, Keiji; JP
Mandataire :
八田国際特許業務法人 HATTA & ASSOCIATES; 東京都千代田区二番町11番地9 ダイアパレス二番町 Dia Palace Nibancho, 11-9, Nibancho, Chiyoda-ku, Tokyo 1020084, JP
Données relatives à la priorité :
2017-06796930.03.2017JP
Titre (EN) METHOD FOR PRODUCING SILICA SOL
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN SOL DE SILICE
(JA) シリカゾルの製造方法
Abrégé :
(EN) [Problem] To provide a method for producing a silica sol, wherein highly aggregated silica particles can be obtained without generating a gel-like substance. [Solution] The present invention provides a method for producing a silica sol, the method comprising a step for adding a liquid (B) to a liquid (A) to prepare a reaction solution, the liquid (A) containing an alkali catalyst, water, a first organic solvent, and silica particles for aggregation, the liquid (B) containing a second organic solvent and at least one among tetramethoxysilane and a condensate thereof, wherein the rate at which the liquid (B) is added when mixing is 8.5×10-4-5.6×10-3 mol/min, in terms of silicon atoms, per 1 mol of water contained in the liquid (A).
(FR) Le problème décrit par la présente invention est de fournir un procédé de production d'un sol de silice, grâce auquel des particules de silice hautement agrégées peuvent être obtenues sans générer de substance de type gel. La solution de l’invention porte sur un procédé de production d'un sol de silice, le procédé comprenant une étape consistant à ajouter un liquide (B) à un liquide (A) en vue de préparer une solution de réaction, le liquide (A) contenant un catalyseur alcalin, de l'eau, un premier solvant organique et des particules de silice pour l'agrégation, le liquide (B) contenant un second solvant organique et du tétraméthoxysilane et/ou un condensat correspondant, la vitesse à laquelle le liquide (B) est ajouté lors du mélange est comprise entre 8,5 × 10-4 et 5,6 × 10-3 mole/min, en termes d'atomes de silicium, pour 1 mole d'eau contenue dans le liquide (A).
(JA) 【課題】ゲル状物を発生させず、かつ高会合のシリカ粒子を得ることができるシリカゾルの製造方法を提供する。 【解決手段】アルカリ触媒、水、第1の有機溶媒および会合用シリカ粒子を含む液(A)に、テトラメトキシシランおよびその縮合物の少なくとも一方ならびに第2の有機溶媒を含む液(B)を混合して反応液を作製する工程を含み、前記混合において、前記液(B)の添加速度が、前記液(A)に含まれる水1molに対して、ケイ素原子換算で8.5×10-4~5.6×10-3mol/minである、シリカゾルの製造方法。
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : Japonais (JA)
Langue de dépôt : Japonais (JA)