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1. (WO2018179704) PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF

Pub. No.:    WO/2018/179704    International Application No.:    PCT/JP2018/001666
Publication Date: Fri Oct 05 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Sat Jan 20 00:59:59 CET 2018
IPC: G03F 7/11
G03F 7/038
H01L 21/027
Applicants: JSR CORPORATION
JSR株式会社
Inventors: MINEGISHI Shinya
峯岸 信也
NAKAGAWA Hisashi
中川 恭志
SEKO Tomoaki
瀬古 智昭
NAKATSU Hiroki
中津 大貴
Title: PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF
Abstract:
La présente invention concerne un procédé de formation de motif comprenant: une étape consistant à appliquer une composition pour former un film de sous-couche sur un substrat; une étape consistant à appliquer une composition sensible aux rayonnements pour former un film de réserve directement ou indirectement sur un film de sous-couche qui est formé par l'étape consistant à appliquer une composition pour former un film de sous-couche; une étape consistant à exposer un film de réserve à une lumière, ledit film de réserve étant formé par l'étape consistant à appliquer une composition sensible aux rayonnements pour former un film de réserve; et une étape consistant à développer le film de réserve qui a été exposé à la lumière. La composition permettant de former un film de sous-couche contient au moins l'un des éléments suivants: un premier composant qui produit un composant contenant un groupe acide, tel qu'un groupe sulfo, un groupe carboxy, un groupe phosphono, un groupe acide phosphorique, un groupe acide sulfurique, un groupe sulfonamide, un groupe sulfonimide, un groupe -CRF1RF2OH ou une combinaison de ces groupes, sous l'effet de la chaleur; et un second composant qui est différent du premier composant et qui contient l'un des groupes acides décrits ci-dessus. La composition sensible aux rayonnements pour former un film de réserve contient au moins 50% en masse d'un composé contenant du métal en termes de teneur en solide.